高麦电子工业用六氟化钼分析解决方案

在装有纯化钼粉的反应器中，导入经过净化的高纯氟气体，控制反应温度在250-300℃,氟化生成六氟化钼。氟化产物经过1-3级接收器，在第一级回收高沸点杂质，第二级在-5-5℃回收六氟化钼，第三级回收过剩的氟及低沸点杂质。将六氟化钼经真空蒸馏，得到高纯六氟化钼。高麦电子工业用六氟化钼分析解决方案 六氟化钼 (molybdenum hexafluorlde) 分子式MoF6， 性质：白色块状结晶，密度 2.55lg/cm(液态， 17.5℃)， 熔点17.5℃， 沸点35℃， 遇干空气、氢气、二氧化硫不 起反应，对湿空气敏感，生成蓝色的氧化钼，大量水溶解并分解，在强氧化剂存在下，室温能侵蚀许多金属(金、铂除外)，使金属表面变为蓝色，与碱性氟化物生成配位化合 物M21[MoFgl- 在装有纯化钼粉的反应器中，导入经过净化的高纯氟气体，控制反应温度在250-300℃氟化生成六氟化铝，氟化产物经过1-3级接收器，在第一级国收高温点杂质，第二级 在-5-5℃回收六氟化铝，第三级回收过剩的氟及低满点杂质，将六氟化铝经真空蒸馏，得到高纯六氟化销。在电子工业中，高纯六氟化铝用作化学气相淀积硅化钼或钼，以制作低电阻、高熔点的 互连线栅极，六氧化钼(MoF)(体积分数)/10 99.9995 项目 指标 六氧化钼(MoF)(体积分数)/10 99.9 99.999 99.9995 氧+氨 (O+Ar) 含量(体积分数)/10 50 0.5 0.5 氮气(N，)含量(体积分数)/10* 50 1 0.5 一氧化碳(CO)含量(体积分数)/10° 0.5 0.5 二氧化碳(CO)含量(体积分数)/10 0.5 0.5 四家化碳(CF)含量(体积分数)/10 10 0.5 0.5 四氟化硅(SIF]含量(体积分数)/10 10 0.5 0.5 氟化氢(HF)含量(体积分数)/10* 800 1 1 六氟化硫 (SF)含量(体积分数)/10 10 0.5 0.5 六氟化钼分析指标