KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用

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检测样品: 光电器件
检测项目: 表面预清洁 Pre-clean
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发布时间: 2023-03-28
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‍‍上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预清洁 Pre-clean 的工艺, 对基材表面有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等!KRi 离子源预清洁可以实现去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附气体, 碳氢化合物残留去除化学吸附污染: 去除天然和粘合材料. 如表面氧化物, 通常去除 < 100Å KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用实验条件: 8寸硅片带铜膜, 通氩气, 60s污染物清除: 有机物,吸附气体数据来源: 俄歇电子能谱 Auger spectra, 美国 KRi 原厂资料KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用实验条件: 轻蚀刻, 硅片去除很薄的金属膜, 通氩气污染物清除: 去除金属薄膜 (w/ Ni/Fe)数据来源:  美国 KRi 原厂资料1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 上海伯东美国 KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRi 考夫曼离子源, 请联络上海伯东叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究!现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士‍‍地址:上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室 伯东企业(上海)有限公司 HAKUTO ENTERPRISES (SHANGHAI) LTD. 地址:上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室 TEL: (86) 21-5046 3511 FAX: (86) 21-5046 1490 WEB: https://www.hakuto-vacuum.cn/ KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用 上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源 适用于安装在 MBE 分子束外延,溅射和蒸发系统,,PLD 脉冲激光系 统等,在沉积前用离子轰击表面,进行预清洁 Pre-clean 的工艺,对基材表面有机物清洗,金属氧化物的 去除等,提高沉积薄膜附着力,纯度,应 应力,工艺效率等! KRi 离子源 预清洁可以实现 去除物理吸附污染:去除表面污染,如水,吸附气体,碳氢化合物残留 去除化学吸附污染:去除天然和粘合材料.如表面氧化物,通常去除<100A E v ap o r a tion Deposit i o n Sy s t em KRi 考夫曼离子源 表面预清洁 Pre-clean 应用 实验条件:8寸硅片带铜膜,通氩气,60s 污染物清除::有机物,吸附气体 数据来源:俄歇电子能谱 Auger spectra, 美国 KRi 原厂资料 伯东企业(上海)有限公司 HAKUTO ENTERPRISES (SHANGHAI) LTD. TEL: (86) 21-5046 3511 FAX: (86) 21-5046 1490 WEB: https://www.hakuto-vacuum.cn/ 人 伯東K Kaufman & R OB IN S ON KRi 考夫曼离子 源 表面预清洁 Pre-clean 应用 实验条件:轻蚀刻,硅片去除很薄的金属膜,通氩气 污染物清除:去除金属薄膜 ((w/ Ni/Fe) 数据来源 尺 ::美国 KRi 原厂资料 伯东企业(上海)有限公司 HAKUTO ENTERPRISES (SHANGHAI) LTD. 地址:上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室 TEL: (86) 21-5046 3511 FAX: (86) 21-5046 1490 WEB: https://www.hakuto-vacuum.cn/ 伯東 K i KaufmanHakuto & ROBINSON Th e l on Sourc e Au tho r it y SM 1978年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司,研发生产宽束离子源,根据设计 原理分为 考夫曼离子源,霍尔离子源 和 射频离子源.美国 考夫曼离子源 历经40年改良及发展已取得多项专 利. 上海伯东美国 KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻IBE,辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和 离子束抛光工艺 IBF 等领域,上海伯东是美国 KRi 考夫曼离 子源 中国总代理. 若您需要进一步的了解 KRi 考夫曼离子源,请参考以下联络方式 上海伯东:叶小姐 台湾伯东:王小姐 T: +86-21-5046-3511 ext 107T:+886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490F: +886-3-567-0049M: +86 1391-883-7267M:+886-939-653-958 上海伯东版权所有,翻拷必究! 现部分品牌诚招合作代理商,:有意向者欢迎联络上海伯东叶小姐 1391-883-7267
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