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本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中,氢氟酸介质下硅元素的方法,采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统,克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点,获得了较低的空白值,适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。
本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中,氢氟酸介质下硅元素的方法,采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统,克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点,获得了较低的空白值,适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。
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安捷伦科技(中国)有限公司为您提供《金属中硅元素检测方案(ICP-AES)》,该方案主要用于其他中含量分析检测,参考标准--,《金属中硅元素检测方案(ICP-AES)》用到的仪器有Agilent 5800 ICP-OES