上海伯东普发涡轮分子泵组脉冲激光沉积系统应用

伯东企业（上海）有限公司HAKUTO ENTERPRISES (SHANGHAI) LTD.TEL: (86) 21-5046 3511 FAX: (86) 21-5046 1490 伯东公司 Pfeiffer  普发涡轮分子泵组脉冲激光沉积系统应用 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成，整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质，对环境的清洁度要求较高，必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 伯东公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小，清洁无油（前级泵配备干泵）、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。   客户案例一：南京某大学物理学院 1.系统功能：主要用于Mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金属膜的制备 2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar 3.样品尺寸：大约1cm2 4.基板加热温度：700至1000度 该PLD系统 Pfeiffer 分子泵配置: 1.pfeiffer 普发经济型分子泵组 HiCube 80 Eco 2.Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 700 客户案例二：上海某研究所  脉冲激光沉积系统基本规格: 1.系统功能：主要用于制备有机自旋阀器件，还可用于制备有机发光二极管、太阳能电池等器件 2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar 3.样品尺寸：直径2’ 4.基板加热温度：1000度 5.镀膜方式：Effusion Cell/Plasma Cell 6.膜生长控制模式：镀率/厚度/时间 控制模式 该PLD系统 Pfeiffer 分子泵配置: 1.分子泵组 pfeiffer HiCube 80*7 2.涡轮分子泵 pfeiffer Hipace 300*2