NLDFT法和GCMC法研究柱形多孔材料—最优的吸附质和方法？

DKSH No.21NLDFT法和GCMC法研究柱形多孔材料一最优的吸附质和方法? 迄今为止，基于吸附势理论的HK法(狭缝孔)、SF法(圆柱孔)和CY法(笼形孔)已用于各种多孔材料的孔隙结构评价，基于毛细管凝结理论的 INNES 方法(狭缝孔)和BJH方法(圆柱孔)等经典的孔径分析方法，应用于中-大孔范围内孔径分析，这是由于其孔结构的不同。另一方面，近年来，人们开始关注通过计算机模拟方法来评估孔结构，如NLDFT(非定域密度泛函)法和GCMC(巨正则蒙特卡洛)法等，这两种方法用一个统一的理论从微孔到中-大孔进行全孔分析。即使对比经典和新的孔径分布分析法，从同一吸附等温线中获得的孔径大小峰值和孔径分布是不同的，因为每个理论得出的填充压力不同。 NLDFT 方法假设-个孔形状(孔尺寸)，确定一些参数，如在吸附温度和压力下的吸附质分子之间的相互作用、构成吸附剂材料的原子之间的相互作用，以及吸附分子和组成吸附剂材料的原子之间的相互作用。孔隙中的吸附密度使用密度泛函法的近似公式来确定。相比之下， GCMC 方法通过模拟吸附现象的计算模拟法来计算吸附密度，其它相互作用等参数如上述一样确定，吸附分子被放入虚拟的孔隙空间，吸附分子的转移、产生和消失被重复，，如果接地电位为负(稳定)，1吸附被接受，如果接地电位为负(稳定)，吸附密度被反转。这些差异表明， NLDFT 方法的吸附相密度低于 GCMC 方法，导致填充压力评估过高(图1)。换句话说， NLDFT 方法可能导致过度评估孔隙体积和过度评估孔隙大小。NLDFT 和 GCMC 法哪一个方法适合孔隙分布?此外，虽然 IUPAC2015中建议的吸附质是Ar 吸附，但是N吸附在多大程度上有用?我们将具体分析并测试圆柱形孔的材料如介孔二氧化硅 MCM41、MFI (10元环) 和 MTW (12元环)沸 石的N，(77.4K) 和Ar(87.3K)的吸附等温线。 图1 NLDFT和 GCMC 的4nm/10nm 局部等温线(吸附等温线Ar @ 87.3 K) 介孔二氧化硅MCM41的N2@77.4K和Ar@87.4K吸脱附等温线(图2)被分类为IVb型，显示存在介孔。图3是使用GCMC方法获得的各个吸附质(N2@77.4K， Ar@87.4K)下的孔隙分布j， e以及使用NLDFT方法获得的Ar@87.4K的孔隙分布。从中可以证实，分析介孔MCM41的N2@77.4K和Ar@87.4K等温线可得到相同的孔分布，通过GCMC和NLDFT方法。 FPIPo 图2MCM41的吸附等温线 (N2@77.4K， Ar@87.4K) 图3MCM41的孔分布(孔容)(N2@77.4K， Ar@87.4 K) MFI 型(10元环)分子筛(Si/Al=500：1000H) 的N2@77.4K， Ar@87.4K 的吸附等温线(图4)被归类为 typeI型，并显示存在微孔。图5是使用GCMC方法(N2@77.4 K， Ar@87.4K)获得的孔隙分布，以及使用NLDFT方法(Ar@87.4K)得到的孔隙分布。GCMC方法的孔隙分布与IZAs(国际分子筛协会)所得出的孔径大小相吻合，所得出的孔径大小相吻合， NLDFT方法的孔隙分布由于核文件问题而使得孔径分布较宽，0.4-0.5nm的孔径实际上并不存在。 图4MFI1000H的吸附等温线(N2@77.4K，Ar@87.3K)图5MFI1000H的孔分布(孔容)) (N2@77.4K，Ar@87.3 图6比较了MFI(25H)和Si/Al=12.5的吸脱附等温线(N2@77.4K 和Ar@87.3K)。由于N2四极子的介入，25H被强吸附在沸石的孔隙表面，吸附量从低相对压力开始逐渐增加并填充微孔。然而，1000H的微孔填充是发生在p/po=1E-6附近，此处吸附量急剧增加。另一方面，在Ar@87.4K吸附中，因为Ar是非极性的，可以证实，无论表面性质如何，25H和1000H的在p/p0=1E-6的吸附量增加是一样的。在25H的N2@77.4K吸附中， GCMC法分析孔径分布(图7)，N2分子由于具有四极矩而强烈附着在 A1+位点上，导致在0.4nm处出现一个小假峰。 基于上述情况，在MFI沸石(10元环)中，采用N2吸附气体的GCMC方法可以分析除A1+位点以外的合理的孔隙分布(>0.5nm)。因此， Ar作为吸附气体的GCMC方法可以正确分析孔径分布和孔容. 图6 MFI25H、1000H吸附等温线(N2@77.4K， Ar@87.3K) 图7 MFI25H的孔分布(孔体积)(N2@77.4K，Ar@87.3K) MTWs (ZSM-12，12元环)的Ar@87.3K 的GCMC法和NLDFT方法(图8)的孔径分布分析表明， GCMC法的孔径分布与IZA所得到的孔结构非常一致。 NLDFT 方法的孔径分布由于核文件问题(图1)而被低估，假设Ar分子直径=0.34nm时， NLDFT计算的0.58 nm 圆柱形孔的孔容(0.14cm²)被高估。因此，可以证实孔径分布是过度评估的。 图8 MTW12元环的GCMC法， NLDFT法孔分布，孔体积累积分布[EVp](Ar@87.3K) 综上所述，对圆柱形介孔材料进行孔隙分布评价， -NLDFT 和 GCMC 采用N2和Ar作为吸附质都是合适的。此外，对于形状相同的微孔沸石，当孔径大于0.4nm时， Ar吸附的GCMC方法在孔分布分析中是最佳的(仅由8元环沸石证实；本版本未描述)。可以说，N2吸附方法可以进行恰当的孔 分布(>0.5nm)分析，除了A1*位点。此外，无论吸附质如何，无论孔体积在孔结构评估中过度评价(如带微孔的沸石)，我们还是推荐在NLDFT计算中采用GCMC法。 选择大昌华嘉，就是选择仪器应用专家Think Asia.Think DKSH.www.dksh-instrument.cn 电话： 邮箱： ins.cn@dksh.com 迄今为止，基于吸附势理论的HK法（狭缝孔）、SF法（圆柱孔）和CY法（笼形孔）已用于各种多孔材料的孔隙结构评价，基于毛细管凝结理论的 INNES 方法（狭缝孔）和 BJH 方法 （圆柱孔）等经典的孔径分析方法，应用于中-大孔范围内孔径分析，这是由于其孔结构的不同。另一方面，近年来，人们开始关注通过计算机模拟方法来评估孔结构，如NLDFT（非定域密度泛函）法和GCMC（巨正则蒙特卡洛）法等，这两种方法用一个统一的理论从微孔到中-大孔进行全孔分析。即使对比经典和新的孔径分布分析法，从同一吸附等温线中获得的孔径大小峰值和孔径分布是不同的，因为每个理论得出的填充压力不同。NLDFT 方法假设一个孔形状（孔尺寸），确定一些参数，如在吸附温度和压力下的吸附质分子之间的相互作用、构成吸附剂材料的原子之间的相互作用，以及吸附分子和组成吸附剂材料的原子之间的相互作用。孔隙中的吸附密度使用密度泛函法的近似公式来确定。相比之下，GCMC 方法通过模拟吸附现象的计算模拟法来计算吸附密度，其它相互作用等参数如上述一样确定，吸附分子被放入虚拟的孔隙空间，吸附分子的转移、产生和消失被重复，如果接地电位为负（稳定），吸附被接受，如果接地电位为负（稳定），吸附密度被反转。这些差异表明，NLDFT 方法的吸附相密度低于 GCMC 方法，导致填充压力评估过高（图 1）。换句话说， NLDFT方法可能导致过度评估孔隙体积和过度评估孔隙大小。NLDFT 和 GCMC 法哪一个方法适合孔隙分布。此外，虽然IUPAC2015中建议的吸附质是Ar吸附，但是N2吸附在多大程度上有用？我们将具体分析并测试圆柱形孔的材料如介孔二氧化硅 MCM41、MFI （10元环） 和 MTW （12元环）沸石的N2 （77.4K） 和Ar（87.3K）的吸附等温线。