Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150_参数

核心参数

一、产品简介

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm Oxidator 150 经过专业的研发, 能够满足 SiC 圆片的高温氧化工艺; 同时亦可用于常规的硅圆片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 卓越的反应腔具有性能高、占地小和生产成本低等特点，为客户提供最高的工艺灵活度, 同时能够保证有毒气体的安全使用。

设备特点：

炉管和加热器均处于真空密闭反应腔内，上下料腔室可用Ar或 N2 进行吹扫，可以保证有毒气体（如 NO、N2O、H2、NO2 等）的安全使用。

氧化工艺使用 N2O 气氛，可以改善 SiO2/SiC 接触表面以获得更高的通道迁移率，同时可提高SiC表面氧化物的稳定性和寿命。

提供带有氢氧合成系统的湿氧工艺。

高达 1350 ℃ 的温度和其他支持功能为 SiC 氧化工艺和低界面陷阱密度, 高通道移动率的氧化层研制提供可能。

二、适用工艺

高温SiC或Si氧化

氧化后退火（氢气环境）

三、产品特性

性能

圆片尺寸： 2″、3″、4″、6″

工艺温度： 900 ℃ ~ 1350 ℃

真空度：小于10^-3 mbar

占地面积小： 1.8m²

售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期: 是

现场技术咨询: 有

免费培训: 技术人员现场培训

免费仪器保养: 2个月1次

保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修

报修承诺: 24小时到达

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