仪器种类: 高真空快速退火炉
产地类别: 国产
样品尺寸: 最大支持150mmX150mm样品
温度范围: 1400℃
最高升温速率: 150℃/S
降温速率: 30℃/S
退火温度准确性: 0.5℃
退火温度均匀性: ±1%
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我司具有软件、自动化和机械等整套研发人员,可依据客户需求,完成定制化设备的研发生产。
客户在我司定制的第三代半导体材料氮化镓、碳化硅可用的新型快速退火炉,已在上海为客户装机调试完毕,如有需求,欢迎广大客户来电咨询定制氮化镓氮化硅快速退火炉的报价、型号、参数等。
设备规格:
6英寸快速退火炉;
适应于 2英寸-6英寸 晶圆或者支持 150mmx150mm 样品;
退火温度范围 300℃-1400℃;
升温速率 ≦150℃/sec(裸片);
温度均匀性 ≦±1%;
常压腔体(可选配真空腔体);
冷却方式包括水冷和氮气吹扫;
MFC控制,1-4路制程气体。
应用领域:
快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);
离子注入/接触退火;
金属合金;
热氧化处理;
化合物合金(砷化镓、氮化物等);
多晶硅退火;
太阳能电池片退火;
高温退火;
高温扩散。
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员现场培训
免费仪器保养: 2月1次
保内维修承诺: 软件免费重装,硬件维修
报修承诺: 24小时到达
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