第三代半导体材料氮化镓碳化硅专用6英寸快速退火炉
第三代半导体材料氮化镓碳化硅专用6英寸快速退火炉

¥80万 - 100万

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全自动6英寸快速退火炉

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中国大陆

核心参数

仪器种类: 高真空快速退火炉

产地类别: 国产

样品尺寸: 最大支持150mmX150mm样品

温度范围: 1400℃

最高升温速率: 150℃/S

降温速率: 30℃/S

退火温度准确性: 0.5℃

退火温度均匀性: ±1%

我司具有软件、自动化和机械等整套研发人员,可依据客户需求,完成定制化设备的研发生产。

客户在我司定制的第三代半导体材料氮化镓、碳化硅可用的新型快速退火炉,已在上海为客户装机调试完毕,如有需求,欢迎广大客户来电咨询定制氮化镓氮化硅快速退火炉的报价、型号、参数等。

设备规格:

6英寸快速退火炉;

适应于 2英寸-6英寸 晶圆或者支持 150mmx150mm 样品;

退火温度范围 300℃-1400℃;

升温速率 ≦150℃/sec(裸片);

温度均匀性 ≦±1%;

常压腔体(可选配真空腔体);

冷却方式包括水冷和氮气吹扫;

MFC控制,1-4路制程气体。

应用领域:

快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);

离子注入/接触退火;

金属合金;

热氧化处理;

化合物合金(砷化镓、氮化物等);

多晶硅退火;

太阳能电池片退火;

高温退火;

高温扩散。



售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 技术人员现场培训

免费仪器保养: 2月1次

保内维修承诺: 软件免费重装,硬件维修

报修承诺: 24小时到达

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