¥500万 - 600万
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全自动12英寸多腔体快速退火炉RTP
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中国大陆
仪器种类： 高真空快速退火炉
产地类别： 国产
样品尺寸： 最大支持 300mmx300mm 样品
温度范围： 1250℃
最高升温速率： 100℃/s
降温速率： 30℃/s
退火温度准确性： 0.5℃
退火温度均匀性： ±1%
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详细介绍：
设备规格:
全自动操作模式，机械手臂自动上片取片；
多腔体生产模式，单个腔体适应于 2英寸-12英寸 晶圆或者最大支持 300mmx300mm 样品；
退火温度范围 300℃-1250℃；
升温速率 ≦100℃/sec(裸片)；
温度均匀性 ≦±1%；
真空腔体（可选配常压腔体或正压腔体）；
冷却方式包括水冷和氮气吹扫；
MFC控制，3-5路制程气体。
工艺应用:
快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)；
离子注入/接触退火；
高温退火；
高温扩散。
金属合金；
热氧化处理；
应用领域：
化合物半导体（砷化镓、氮化物、碳化硅等）；
多晶硅；
太阳能电池片；
MEMS；
功率器件；
IC晶圆；
LED晶圆。
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员现场培训
免费仪器保养: 2月1次
保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修
报修承诺: 24小时到达
