牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统

OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。

• 紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项

• 适用于小尺寸至200mm的晶圆片

• 蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体

• 实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪

• ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求

• 实时监测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪

• OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD

牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，我们还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。

特征

• 可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境

• 易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间

• 机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺

• 气动起重装置 - 用于安全打开腔室

• 可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺

应用

• 纳米电子

• 高K栅氧化物

• 存储电容电介质

• 用于Cu互连的高深宽比扩散隔层

• 用于OLED和聚合物的无针孔钝化层

• 用于晶体硅太阳能电池的钝化

• 用于微流体和MEM的高保形涂层

• 纳米多孔结构的涂层

• 生物MEMS

• 燃料电池