原子层ALD连续沉积 Roll-to-roll腔室

可连续沉积ALD Roll-to-roll腔室

在印刷电子，OLED照明，第三代薄膜光伏电池，高能量密度薄膜电池，智能纺织材料，有机传感器，有机/可循环利用包装材料，柔性显示器等柔性衬底研究领域，需要一种连续ALD镀膜系统。
 
印刷电子业面临的难题就是寻找一种柔性的，性能可靠的低成本封装材料，这种材料用来保护对环境（水，空气，杂质）非常敏感的器件，从而延长器件的寿命。ALD制备的氧化物，如氧化铝，氧化钛等在作为保护层材料方面表现优异。因此，印刷电子行业必定是ALD未来重要的应用领域之一。
 

卷对卷（R2R）ALD设备拓展了Picosun已经非常优异的产品线，卷对卷工艺体现了Picosun的高要求，也对Picosun作为ALD设备顶级供应商的实力有个很好的补充。目前,卷对卷技术可以升级到所有的新旧R系列设备中。

手套箱兼容

所有的PICOSUN™ ALD系统都可以集成各种手套箱，以消除空气中的水分或氧气对敏感衬底的影响。不论是配有装载室的ALD还是只有标准气动升降梯装载的ALD设备都可以和手套箱的箱壁或底部密封连接。

超高真空兼容

所有的PICOSUN™ ALD系统都可以通过集成泵室或对系统本身进行优化，实现超高真空(UHV)兼容性能。