看了原子层沉积设备的用户又看了
应用：
柔性基板镀层(Al2O3)
穿透率(water vapor transmission rate) of<5.0x10-4 g/m2
用于Micro OLED沉积(Al2O3)
适用工业化大批生产
优势：
高产能 :>10 wafer/hour (Ref.: 30k/month, Tact Time: 1min @50nm)
基板尺寸 :≤12 inch
特点：
先进的工艺kit及紧凑的反应室, 以实现短的反应气体循环周期
极其实现化的原子层沉积机制
小的占用面积
综合集成化的工艺单元模组
简便的工艺控制
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 1次现场培训
免费仪器保养: 根据需要，可协商
保内维修承诺: 24小时响应
报修承诺: 24小时响应
NCD原子层沉积GuD的工作原理介绍
原子层沉积GuD的使用方法?
NCDGuD多少钱一台?
原子层沉积GuD可以检测什么？
原子层沉积GuD使用的注意事项？
NCDGuD的说明书有吗？
NCD原子层沉积GuD的操作规程有吗？
NCD原子层沉积GuD报价含票含运吗？
NCDGuD有现货吗？
