产地类别: 进口
衬底尺寸: 4
工艺温度: 350 -800
前驱体数: 6
重量: 160kg
尺寸(W x H x D): 835 x 1644 x700
均匀性: ≤3%
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SAL-3000Plus ALD原子层沉积系统
SAL3000Plus是一款可拓展型的ALD原子层沉积系统,可通过连接STR2000转移单元,与退火设备SAN2000Plus,镀膜设备,SVE2000Plus蒸镀设备,SSP2000Plus/SSP3000Plus磁控溅射设备搭配;
SAL-3000Plus SAL3000Plus+ STR2000+SAN2000Plus
性能及特点:
1.镀膜质量高
· 膜厚均匀性≤3% @ 100mm
· 对于内孔、凹槽与高深宽比结构具有良好的沉积均匀性;
· 膜厚可准确控制达一个原子层;
· 大面积制程可达到无孔洞薄膜(Pin Hole free)
· 极高的重复性及稳定性
· 材料缺陷密度低
· 可成长非晶型或结晶薄膜(选择温度)
2.两种成膜方向可选
· 可选择将薄膜沉积在基底上表面和基底下表面,薄膜沉积在基底下表面可降低颗粒附着基底的风险。
3. 可通过STR2000与其它Plus系列设备串联
4.最多可搭载6路前驱体
5.优异的真空性能:真空度≤5Pa
6.图形用户界面,触控操作,简单易用,可存储30多种镀膜方案
7.与SAL3000相比,宽度减少了40%
6. 可搭配多种配件:
干式真空泵,臭氧发生器,尾气处理装置,800℃基底加热器,200℃前驱体加热器等,退火设备等;
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 安装培训不限人数
免费仪器保养: 保修期内,1次/年
保内维修承诺: 非耗材保修期内免费更换
报修承诺: 24小时内反馈,72小时内提出解决方案
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原子层沉积SAL-3000Plus的使用方法?
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