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晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统
ALD for surface passivation of c-Si solar cells
应用：
1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积
2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积
3.大规模生产的应用
4.工业全自动生产设备
5.高产量：高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)
特征：
1.良好的厚度＆均匀性好的Al2O3薄膜
2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积
3.具体化的ALD机械装置
4.全集成工艺模块
5.操作过程简单
6.自动式操作
技术规格：
| Model | Material | Wafer Size(mm2) | Thickness (nm) | Throughput(wph) |
|---|---|---|---|---|
| LucidaTM GS200 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥550 |
| LucidaTM GS800 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥2300 |
| LucidaTM GS1200 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥3400 |
| LucidaTM GS1600 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥4500 |
| LucidaTM GS6000 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥6000 |
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 1次现场培训
免费仪器保养: 根据需要，可协商
保内维修承诺: 24小时响应
报修承诺: 24小时响应
NCD原子层沉积GS的工作原理介绍
原子层沉积GS的使用方法?
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原子层沉积GS使用的注意事项？
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