芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列

名称：原子层沉积系统
品牌：PICOSUN
产地：芬兰
型号：PICOSUN™ ALD- P300系列

Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。

客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。

芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列以其适中的反应温度，甚至在最小的纳米孔洞结构及高深宽比材料中也具有极佳的薄膜均匀性、保形性，是开发MEMS和传感器的理想工艺。

PICOSUN公司提供具有技术领先、高产能和具有成本效益的批处理ALD系统，可为MEMS制造商定制自动化、复杂衬底处理方案。PICOSUN提供200毫米（甚至更小）尺寸晶圆解决方案，特别适用于传感器、打印头、麦克风，光电MEMS和射频MEMS产业。

芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列可沉积如Al2O3、ZnO、TiO2、SiO2、ZrO2 和HfO2、Ta2O5，氮化物（TiN、AlN）以及金属。

微机电系统中的ALD功能层:

? 扩散阻挡层                           ? 导热层

? 粘附层                                  ? 防粘层

? 电荷耗散层                           ? 光学层

? 导电种子层                           ? 生物膜

? 蚀刻掩膜、蚀刻阻挡层          ? 密封

? 电绝缘层                               ? 抗摩擦层

? 纳米孔洞闭合