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牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀-ALE-Flyer_2015-LR牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀-ALE-Flyer_2015-LR

发布时间:2018/08/08 10:28 下载:7 次 免费下载
•Etch rates 2 to 7Å/cycle •Demonstrated results in a-Si, Si, SiO2, MoS2 layer etching •Fast recipe control down to 10ms •ALD-style gas dose delivery using “ALD valves” with 10ms open-close response •Ultra low power operation •Ability to etch in ALE or normal etch mode
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