SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统

¥100万 - 200万

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E200P 双反应腔+6路进气口

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中国大陆

  • 金牌
  • 第3年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产地类别: 国产

Exploiter  E200P原子层沉积系统(粉末颗粒包裹反应腔)是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统,可在平面衬底、粉末颗粒表面、高深宽比结构及其他复杂三维结构上沉积薄膜。原子层沉积系统 E200P广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域,其特点在于:

双反应腔:Φ200mm + 粉末颗粒包裹腔

6路进气口:3路前驱体源 + 3路反应气源


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地址:深圳市宝安区新安街道兴东社区优创空间1号楼511-513

           41776 Fremont Blvd, Fremont CA 94538, USA


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