SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统

¥100万 - 200万

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E100HV Plus 过渡腔和反应腔+ 9路进气口

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中国大陆

  • 金牌
  • 第3年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产地类别: 国产

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Exploiter原子层沉积系统(HV集成传送反应腔)是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统,适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。

 

1、产品特色

1)传输管路的优化设计,有效地避免管路堵塞及交叉污染问题

2)工业化级别标准集成:PLC+工控机+触摸屏

3)软件操作界面友好,可真正实现“一键沉积”

4)完善全面的安全互锁方案

5)实时监测镀膜工艺

2、可制备的材料种类

1)氧化物:Al2O3TiO2SiO2HfO2Ta2O5ZrO2ZnO、SnO2La2O3Lu2O3

2)金属材料及合金:Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等

3)二元/多元材料:AlN、HfON、LaAlO3MnN、WN等

4)纳米层压材料:(Al2O3/ZrO2)n

3、技术指标

1)本底真空:<5.0×10-3torr,高性能机械泵(可定制其它款型)

2)真空过渡腔 + Φ100mm基片真空反应腔

(3)9路进气口:6路前驱体源 + 3路反应气源

(4)沉积温度:室温-500℃(可定制其他温度)

(5)前驱体管道温度:室温-120℃(可定制其他温度)

(6)源瓶加热温度:室温-120℃(可定制其他温度)


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电话:

           

           

地址:深圳市宝安区新安街道兴东社区优创空间1号楼511-513

           41776 Fremont Blvd, Fremont CA 94538, USA



 


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