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ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500
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欧洲
看了电子束曝光机的用户又看了
ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500
SI 500是高刻蚀速率、低损伤刻蚀设备，特别针对III-V半导体和微光学应用
主要特点:
高速率刻蚀
低损伤
高深宽比
高一致性
平板三螺旋天线式PTSA等离子源(P)lanar (T)riple (S)piral (A)ntenna
远程控制
应用领域：III-V半导体化合物，微光学，微系统
SENTECH高级等离子设备操作软件
穿墙式安装方式
干涉式终点探测和刻蚀深度测量系统
系统配置:
PTSA ICP等离子源 (13.56 MHz, 1200 W)，集成自动匹配网络。
RF偏置(13.56 MHz, 600 W)
循环进气，集成到PTSA源内
高速率真空泵系统，独立气流压强控制
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员现场培训
免费仪器保养: 2个月1次
保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修
报修承诺: 24小时到达
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