德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机
德国海德堡 µMLA台式光刻机/无掩膜激光直写光刻/激光光刻机
德国海德堡 ULTRA高速掩膜版制作高端光刻机
德国海德堡 VPG+200/VPG+400高端光刻机/专业掩膜版制作激光光刻机
德国海德堡 DWL2000GS/DWL4000GS大幅面无掩膜三维激光直写光刻机/灰度直写光刻
小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3
德国海德堡 MLA300自动化无掩膜光刻系统/激光直写光刻机
泽攸科技无掩模光刻机ZML10A
无掩模紫外激光直写系统
亚微米精度紫外激光直写系统
德国海德堡 热探针扫描3D纳米结构光刻系统-NanoFrazor
德国海德堡 热探针扫描3D纳米结构光刻系统-NanoFrazor
大幅面无掩模激光直写光刻机
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机
EVG 单面/双面光刻机EVG620
大幅面无掩模激光直写光刻机
MicroMaster 激光直写光刻机
激光直写光刻机
俄罗斯Optosystems准分子激光器CLS 5000
小型台式无掩膜光刻系统 MicroWriter ML3®
生物体打印光刻系统
数字投影无掩膜光刻系统
紫外激光直写光刻系统
共 185 条
分类小贴士
无掩模光刻机(也叫直写光刻机)是一种将图案直接写入光刻胶上的光刻设备,不需要使用掩模(即类似印章的遮罩板)来进行光刻。与传统的掩模光刻机相比,无掩模光刻机具有以下优点: 更快的制程速度:无掩模光刻机不需要进行掩模对准和对位工作,因此制程速度更快。 更灵活的生产能力:由于无掩模光刻机可以直接在光刻胶上绘制图案,因此可以生产出更加灵活、多样化的产品,而不必因为制造新的掩模而增加成本。 更低的成本:无掩模光刻机不需要使用掩模,因此在掩模设计、制造、校验和维护等方面都可以降低成本。 无掩模光刻机主要应用于MEMS、LED、纳米技术、生物芯片等领域的制造。
最多添加5台