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无掩模光刻机/直写光刻机

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共 185 台激光直写光刻机
无掩膜激光直写光刻机

无掩膜激光直写光刻机

  • BEAM XL Mk2
  • 暂无
参考报价 ¥50万 - 100万
德国海德堡 MLA150无掩膜激光直写光刻机

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  • MLA150
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德国 SUSS光刻机MA/BA6

德国 SUSS光刻机MA/BA6

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参考报价 ¥3万 - 5万
德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机

德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机

  • VPG+800/VPG+1100/VPG+1400
  • 暂无
参考报价 面议
德国海德堡 µMLA台式光刻机/无掩膜激光直写光刻/激光光刻机

德国海德堡 µMLA台式光刻机/无掩膜激光直写光刻/激光光刻机

  • μMLA
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PicoMaster 激光直写光刻机

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  • PicoMaster ATE-200
  • 暂无
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德国海德堡 ULTRA高速掩膜版制作高端光刻机

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  • ULTRA
  • 暂无
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德国海德堡 VPG+200/VPG+400高端光刻机/专业掩膜版制作激光光刻机

德国海德堡 VPG+200/VPG+400高端光刻机/专业掩膜版制作激光光刻机

  • VPG+200/VPG+400
  • 暂无
参考报价 面议
德国海德堡 DWL2000GS/DWL4000GS大幅面无掩膜三维激光直写光刻机/灰度直写光刻

德国海德堡 DWL2000GS/DWL4000GS大幅面无掩膜三维激光直写光刻机/灰度直写光刻

  • DWL2000/ DWL4000
  • 暂无
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小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3

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  • MicroWriter ML3
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PicoMaster 激光直写光刻机

PicoMaster 激光直写光刻机

  • PicoMaster ATE-100
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德国海德堡 MLA300自动化无掩膜光刻系统/激光直写光刻机

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  • MLA300
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泽攸科技无掩模光刻机ZML10A

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  • ZML10A
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无掩模紫外激光直写系统

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亚微米精度紫外激光直写系统

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  • OETECH01
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参考报价 ¥80万
德国海德堡 热探针扫描3D纳米结构光刻系统-NanoFrazor

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  • NanoFrazor
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德国海德堡 热探针扫描3D纳米结构光刻系统-NanoFrazor

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  • NanoFrazor Explore
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大幅面无掩模激光直写光刻机

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  • PicoMaster XF ATE-800
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双光子聚合激光直写3D纳米光刻机

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  • MicroFAB
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EVG 单面/双面光刻机EVG620

EVG 单面/双面光刻机EVG620

  • EVG620 单面/双面光刻机
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大幅面无掩模激光直写光刻机

大幅面无掩模激光直写光刻机

  • PicoMaster XF ATE-500
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MicroMaster 激光直写光刻机

MicroMaster 激光直写光刻机

  • MicroMaster
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激光直写光刻机

激光直写光刻机

  • PicoMaster XF ATE-200
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俄罗斯Optosystems准分子激光器CLS 5000

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  • CLS5000
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小型台式无掩膜光刻系统 MicroWriter ML3®

小型台式无掩膜光刻系统 MicroWriter ML3®

  • MicroWriter ML3®
  • 暂无
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生物体打印光刻系统

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  • VOP
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数字投影无掩膜光刻系统

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  • UVD
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紫外激光直写光刻系统

紫外激光直写光刻系统

  • AOD
  • 暂无
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共 185 条

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分类小贴士

无掩模光刻机(也叫直写光刻机)是一种将图案直接写入光刻胶上的光刻设备,不需要使用掩模(即类似印章的遮罩板)来进行光刻。与传统的掩模光刻机相比,无掩模光刻机具有以下优点: 更快的制程速度:无掩模光刻机不需要进行掩模对准和对位工作,因此制程速度更快。 更灵活的生产能力:由于无掩模光刻机可以直接在光刻胶上绘制图案,因此可以生产出更加灵活、多样化的产品,而不必因为制造新的掩模而增加成本。 更低的成本:无掩模光刻机不需要使用掩模,因此在掩模设计、制造、校验和维护等方面都可以降低成本。 无掩模光刻机主要应用于MEMS、LED、纳米技术、生物芯片等领域的制造。

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