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- 万元
共 98 台有掩模光刻机
光刻机，紫外曝光机，Mask Aligner

光刻机，紫外曝光机，Mask Aligner

  • MDA-80MS
  • 暂无
参考报价 $30万
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光刻机，紫外曝光机（双面，半自动）

光刻机，紫外曝光机（双面，半自动）

  • MDA-600S
  • 暂无
参考报价 $25万
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德国Nanoscribe全新微纳3D打印机 Professionl GT2

德国Nanoscribe全新微纳3D打印机 Professionl GT2

  • Professionl GT2 全新微纳3D打印机
  • 暂无
参考报价 ¥3万 - 5万
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光刻机/紫外曝光机

光刻机/紫外曝光机

  • MDA-400M
  • 暂无
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光刻机，紫外曝光机（LED光源）

光刻机，紫外曝光机（LED光源）

  • MDA-400LJ
  • 暂无
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瑞士idonus紫外光刻曝光机

瑞士idonus紫外光刻曝光机

  • PLX
  • 暂无
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有掩膜光刻机

有掩膜光刻机

  • MA12
  • 暂无
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ASML光刻机主要型号及参数

ASML光刻机主要型号及参数

  • ASML光刻机主要型号及参数
  • 暂无
参考报价 ¥150万 - 500万
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CANON光刻机主要型号及参数详解

CANON光刻机主要型号及参数详解

  • CANON光刻机主要型号及参数详解
  • 暂无
参考报价 ¥150万 - 200万
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NIKON光刻机型号及参数详解

NIKON光刻机型号及参数详解

  • NIKON光刻机型号及参数详解
  • 暂无
参考报价 ¥150万 - 500万
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ASML光刻机型号与性能详解

ASML光刻机型号与性能详解

  • ASML光刻机型号与性能详解
  • 暂无
参考报价 ¥150万 - 500万
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SUSS紫外光刻机MA6/BA6

SUSS紫外光刻机MA6/BA6

  • MA6/BA6
  • 暂无
参考报价 ¥200万 - 450万
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MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-20

MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-20

  • MA-20
  • 暂无
参考报价 ¥3万 - 3.2万
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EVG620 光刻机/单面双面光刻机/EVG

EVG620 光刻机/单面双面光刻机/EVG

  • EVG620
  • 暂无
参考报价 ¥200万 - 450万
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德国 SUSS/光刻机/MJB4

德国 SUSS/光刻机/MJB4

  • MJB4
  • 暂无
参考报价 ¥200万 - 450万
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尼康步进光刻机 Nikon NSR 2005 i8A 6 Inch

尼康步进光刻机 Nikon NSR 2005 i8A 6 Inch

  • Nikon NSR 2005 i8A 6 Inch
  • 暂无
参考报价 ¥1
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尼康光刻机 Nikon NSR-SF150

尼康光刻机 Nikon NSR-SF150

  • Nikon NSR-SF150
  • 暂无
参考报价 ¥150万 - 500万
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ASML 光刻机 1460K

ASML 光刻机 1460K

  • 1460K
  • 暂无
参考报价 ¥1
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MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-10B

MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-10B

  • MA-10B
  • 暂无
参考报价 ¥8万 - 10万
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MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-10

MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-10

  • MA-10
  • 暂无
参考报价 ¥3万 - 3.2万
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MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机（接触式光刻机）MA-60F

MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机（接触式光刻机）MA-60F

  • MA-60F
  • 暂无
参考报价 ¥3万 - 8万
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带双像显微镜的掩模对准系统

带双像显微镜的掩模对准系统

  • MAS
  • 暂无
参考报价 ¥50万 - 100万
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电子束光刻机/EBL

电子束光刻机/EBL

  • ELS-BODEN
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
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日本Elionix 超高精密电子束光刻系统 ELS-F150

日本Elionix 超高精密电子束光刻系统 ELS-F150

  • ELS-F150
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
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Elionix电子束光刻机

Elionix电子束光刻机

  • ELS-F125
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
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中科光电紫外单面光刻机URE-2000/35

中科光电紫外单面光刻机URE-2000/35

  • URE-2000/35
  • 暂无
参考报价 面议
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海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG1600

海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG1600

  • VPG1600
  • 暂无
参考报价 ¥80万 - 100万
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Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 800

Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 800

  • VPG+ 800
  • 暂无
参考报价 ¥80万 - 100万
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瑞典Mycronic 多功能掩膜版光刻机FPS 6100

瑞典Mycronic 多功能掩膜版光刻机FPS 6100

  • FPS 6100
  • 暂无
参考报价 ¥80万 - 100万
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UV-LED 曝光系统

UV-LED 曝光系统

  • UV-LED
  • 暂无
参考报价 ¥50万 - 100万
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共 98 条

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  • 2
  • 3
  • 4

分类小贴士

有掩模光刻机是一种用于微电子器件制造的关键设备，它使用高精度投影光学系统将芯片设计图案投影到覆盖整个晶片表面的光刻胶层上，然后通过化学蚀刻等工艺去除未被光刻胶保护的区域，最终形成微米级别的电路和元器件。 在有掩模光刻机中，掩模（也称掩膜或掩板）是一个非常重要的部件。掩模是一块平面透明的玻璃或石英基板，上面覆盖着一层非常细的金属线或其他材料，这些金属线被排列成芯片上所需要的图形。当将掩模放置在光刻机上时，光刻机会发射一束硬UV光线，这些光线会通过掩模上的芯片图案，并最终照射到光刻胶层上，从而实现图案的复制。 有掩模光刻机的关键技术包括高分辨率、高成像质量、高对比度、高光刻精度等。这些技术的不断改进，使得有掩模光刻机能够制造出更加精密、高性能的微电子器件。

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