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共 111 台电子束曝光
泽攸科技ZEL304G电子束光刻机

泽攸科技ZEL304G电子束光刻机

电子束曝光近30天热度榜·第2名
  • ZEL304G
  • 暂无
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CIONE系列Mini 等离子/反应离子刻蚀机

CIONE系列Mini 等离子/反应离子刻蚀机

电子束曝光近30天热度榜·第6名
  • CIONE4,CIONE6,CIONE8
  • 暂无
参考报价 ¥10万 - 30万
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伯东代理进口离子蚀刻机 IBE日本NS离子束刻蚀机 NS-8

伯东代理进口离子蚀刻机 IBE日本NS离子束刻蚀机 NS-8

  • NS-8
  • 暂无
参考报价 ¥100万 - 150万
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日本Elionix电子束曝光机

日本Elionix电子束曝光机

电子束曝光近30天热度榜·第1名
  • ELS-F125
  • 暂无
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高分辨率纳米压印模板

高分辨率纳米压印模板

  • 石英/硅/聚合物模板
  • 暂无
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基于改装SEM纳米图形电子束曝光机NPGS V9.2

基于改装SEM纳米图形电子束曝光机NPGS V9.2

电子束曝光近30天热度榜·第7名
  • NPGS V9.2
  • 暂无
参考报价 ¥30万 - 50万
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Pharos 310电子束曝光机

Pharos 310电子束曝光机

电子束曝光近30天热度榜·第5名
  • Pharos 310
  • 暂无
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EBPG 超高性能电子束光刻系统

EBPG 超高性能电子束光刻系统

电子束曝光近30天热度榜·第3名
  • EBPG
  • 暂无
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ELPHY图形发生器

ELPHY图形发生器

电子束曝光近30天热度榜·第4名
  • ELPHY
  • 暂无
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PIONEER 电子束光刻机

PIONEER 电子束光刻机

电子束曝光近30天热度榜·第8名
  • PIONEER Two
  • 暂无
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VOYAGER 高性能电子束曝光系统

VOYAGER 高性能电子束曝光系统

电子束曝光近30天热度榜·第9名
  • VOYAGER
  • 暂无
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CHIPSCANNER 高分辨率电子束曝光机

CHIPSCANNER 高分辨率电子束曝光机

  • CHIPSCANNER
  • 暂无
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eLINE 多功能电子束光刻系统

eLINE 多功能电子束光刻系统

电子束曝光近30天热度榜·第10名
  • eLINE
  • 暂无
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Raith150高分辨电子束光刻系统

Raith150高分辨电子束光刻系统

  • Raith150
  • 暂无
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反应离子刻蚀机RIE

反应离子刻蚀机RIE

  • PS-100
  • 暂无
参考报价 ¥30万 - 50万
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电子束曝光EBL

电子束曝光EBL

  • 电子束曝光EBL
  • 暂无
参考报价 ¥400万 - 500万
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德国 Raith 电子束光刻机 Pioneer Two

德国 Raith 电子束光刻机 Pioneer Two

  • Pioneer Two 电子束光刻机
  • 暂无
参考报价 ¥80万 - 100万
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RAITH电子束曝光设备

RAITH电子束曝光设备

  • RAITH电子束曝光设备
  • 暂无
参考报价 ¥490万
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Nanonex Lumina-200

Nanonex Lumina-200

  • Lumina-200
  • 暂无
参考报价 ¥150万 - 200万
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SPTS深硅刻蚀设备

SPTS深硅刻蚀设备

  • SPTS深硅刻蚀设备
  • 暂无
参考报价 ¥400万 - 500万
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光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner)

光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner)

  • M-100
  • 暂无
参考报价 ¥30万 - 50万
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电子束光刻机Raith 150 Two

电子束光刻机Raith 150 Two

  • Raith 150 Two 高分辨电子束光刻机
  • 暂无
参考报价 ¥1000万 - 2000万
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日本Nikon I线步进式光刻机NSR-I12

日本Nikon I线步进式光刻机NSR-I12

  • NSR-I12 步进光刻机
  • 暂无
参考报价 ¥300万 - 400万
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R2P紫外固化纳米压印机

R2P紫外固化纳米压印机

  • Uni A6DT
  • 暂无
参考报价 ¥80万 - 100万
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台式无掩膜激光直写光刻机

台式无掩膜激光直写光刻机

  • ulaser/ilaser
  • 暂无
参考报价 ¥50万
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Stensborg R2P微纳米压印机

Stensborg R2P微纳米压印机

  • Uni A6
  • 暂无
参考报价 ¥50万 - 80万
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超高分辨无掩模直写光刻机

超高分辨无掩模直写光刻机

  • LW405D/LW405E
  • 暂无
参考报价 ¥150万 - 400万
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Nanonex NX-B100/200-纳米压印

Nanonex NX-B100/200-纳米压印

  • NX-B100/200
  • 暂无
参考报价 ¥200万 - 300万
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日本Elionix 新型ELS-BODEN 电子束光刻系统

日本Elionix 新型ELS-BODEN 电子束光刻系统

  • ELS-BODEN 电子束光刻机
  • 暂无
参考报价 ¥200万 - 500万
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电子束光刻系统

电子束光刻系统

  • 电子束光刻系统
  • 暂无
参考报价 ¥400万 - 500万
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共 111 条

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分类小贴士

电子束曝光机是一种使用电子束对材料表面进行精密加工的设备。在电子束曝光机中，一束高速电子被发射出来，然后经过聚焦和控制系统，准确地照射到需要加工的材料表面上，使其受到束流能量的作用。通过控制电子束的聚焦和移动，可以在微米或纳米级别上进行加工，具有精度高、速度快、适用范围广等优点。 电子束曝光机被广泛应用于半导体、光学元件、MEMS、航空航天等领域的微型加工和制造。比如，它可以用于制作微型光学器件和光纤通信器件、制造微机电系统（MEMS）以及制造新型纳米材料等。同时，电子束曝光机还可以在半导体行业中，通过使用电子束光刻技术制造芯片，满足现代科技的需求。

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