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PECVD沉积系统-SI 500 PPD
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欧洲
看了镀膜机的用户又看了
SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD
SENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）。
SI 500 PPD是电容平板式PECVD等离子沉积设备，主要用于SiO2，SiOxNy，SiNy，a-Si，SiC薄膜的沉积 。适用于2"--8" 样片的薄膜沉积。
图1、SI 500 PPD 设备外形图
• 电源13.56 MHz, 600 W
• 驱动电极集成了淋浴头和暗区屏蔽
• 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)
• 预真空锁loadlock， 带有取放机械手
• 高速率真空泵系统，独立气流压强控制
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员现场培训
免费仪器保养: 2个月1次
保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修
报修承诺: 24小时到达
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