上海伯东美国 KRI 霍尔离子源,无灯丝霍尔源 eH

报价

面议

暂无评分

品牌

考夫曼

样本

暂无样本

型号

Gridless eH 系列

荣誉奖项

产地

美洲

伯东公司德国普发真空pfeiffer

金牌
第17年
一般经销商

营业执照已审核

留言询价电话询价

核心参数

同类推荐

看了镀膜机的用户又看了

产品介绍售后服务承诺用户评论问商家

产地: 美国
类型: 霍尔型离子源

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列
美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计有效提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护. 霍尔离子源 eH 提供一套完整的方案包含离子源, 电子中和器, 电源供应器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如镀膜机, load lock, 溅射系统, 卷绕镀膜机等.

美国 KRI 霍尔离子源 eH 特性
无栅极
高电流低能量
发散光束 >45
可快速更换阳极模块
可选 Cathode / Neutralize 中和器

美国 KRI 霍尔离子源 eH 主要应用
辅助镀膜 IBAD
溅镀&蒸镀 PC
表面改性、激活 SM
沉积 (DD)
离子蚀刻 LIBE
光学镀膜
Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)
Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如
1. 离子辅助镀膜及电子枪蒸镀
2. 线上式磁控溅射及蒸镀设备预清洗
3. 表面处理
4. 表面硬化层镀膜
5. 磁控溅射辅助镀膜
7. 偏压离子束磁控溅射镀膜

美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH

霍尔离子源 eH 系列在售型号:

型号	eH400	eH1000	eH2000	eH3000	eH Linear
中和器	F or HC	F or HC	F or HC	F or HC	F
阳极电压	50-300 V	50-300 V	50-300 V	50-250 V	50-300 V
离子束流	5A	10A	10A	20A	根据实际应用
散射角度	>45	>45	>45	>45	>45
气体流量	2-25 sccm	2-50 sccm	2-75 sccm	5-100 sccm	根据实际应用
本体高度	3.0“	4.0“	4.0“	6.0“	根据实际应用
直径	3.7“	5.7“	5.7“	9.7“	根据实际应用
水冷	可选	可选	是	可选	根据实际应用

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请查看官网或咨询叶女士
上海伯东版权所有, 翻拷必究！