Aston™ 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制
Aston™ 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制

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Atonarp

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质谱仪Aston™

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亚洲

  • 金牌
  • 第17年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

Aston™ 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制

先进半导体应用的原位过程控制
上海伯东日本 Atonarp Aston™  Impact 和 Aston™ Plasma 是超紧凑型质谱仪, 适用于先进半导体工艺(如沉积和蚀刻)所需的定量气体分析.

Aston™质谱分析
分子测量
快速,灵敏度达到十亿分之一 检测残留气体 / 冷凝物污染.

Aston™质谱分析
提高产量
提供化学特定的可操作见解, 尽可能地提高产量

Aston™质谱分析
提高安全性
监测爆炸性气体. 检查排放和减排效果.


Aston™ 质谱仪解决了关键的原位计量问题

• 提高吞吐量: 端点检测而不是基于时间的流程
• 提高产量: 以十亿分之一的灵敏度测量沉积和蚀刻工艺期间的工艺气体 / 副产物

Aston™ 质谱仪先进工艺的优势
ppb 级灵敏度的高速采样
非常适合高纵横比的 3D 结构
耐腐蚀性气体
坚固紧凑
易于集成到工具平台中
沉积应用中:  实时过程气体监控,以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程
蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁

Atonarp  Aston™ 技术参数

类型

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

型号

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

质量分离

四级杆

真空系统

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

检测器

FC /SEM

质量范围

2-285

2-220

2-285

分辨率

0.8±0.2

检测限

0.1 PPM

工作温度

15-35“℃

功率

350 W

重量

15 kg

尺寸

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

 

Aston™ 质谱仪半导体制造应用

先进的工艺
原子层沉积 (ALD)
化学气相沉积 (CVD)
原子层蚀刻 (ALE)

腔室管理
干净的终点检测
指纹识别和匹配
 

Sub-fab 安全性, 可持续性和节省优化
过程安全监控
干泵保护
减排管理

质谱分析仪

沉积
化学气相沉积

TEOS

蚀刻
介电,导电,金属
高纵横比 <1% 开放区域检测


EUV/光刻
SnH4 蚀刻
光掩模蚀刻

自主过程控制
模型驱动的实时过程监控


若您需要进一步的了解 Atonarp  Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生       


售后服务承诺

产品货期: 365天

整机质保期: 1年

培训服务: 提供付费培训

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Atonarp过程质谱质谱仪Aston™的工作原理介绍

过程质谱质谱仪Aston™的使用方法?

Atonarp质谱仪Aston™多少钱一台?

过程质谱质谱仪Aston™可以检测什么?

过程质谱质谱仪Aston™使用的注意事项?

Atonarp质谱仪Aston™的说明书有吗?

Atonarp过程质谱质谱仪Aston™的操作规程有吗?

Atonarp过程质谱质谱仪Aston™报价含票含运吗?

Atonarp质谱仪Aston™有现货吗?

Aston™ 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制信息由伯东公司德国普发真空pfeiffer为您提供,如您想了解更多关于Aston™ 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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