上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100

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品牌

考夫曼

样本

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型号

KDC 100

荣誉奖项

产地

美洲

伯东公司德国普发真空pfeiffer

金牌
第17年
一般经销商

营业执照已审核

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核心参数

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KRI 考夫曼离子源 KDC 100
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：

型号	KDC 100
供电	DC magnetic confinement
- 阴极灯丝	2
- 阳极电压	0-100V DC
电子束	OptiBeam™
- 栅极	专用, 自对准
-栅极直径	12 cm
中和器	灯丝
电源控制	KSC 1212
配置	-
- 阴极中和器	Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000
- 安装	移动或快速法兰
- 高度	9.25'
- 直径	7.6'
- 离子束	聚焦平行散设
-加工材料	金属电介质半导体
-工艺气体	惰性活性混合
-安装距离	8-36”
- 自动控制	控制4种气体

‍‍‍‍* 可选: 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请联络上海伯东
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