博远微纳高真空双靶磁控溅射镀膜机VPI博远微朗

SD-650MHT双靶磁控溅射仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

双靶磁控溅射仪原理:

　　磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下zui终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。

SD-650双靶磁控溅射镀膜机参数：

品牌

品牌 : 北京博远微纳科技有限公司                                                                                                      

型号: SD-650MHT                                                                

仪器主机尺寸:  长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高720mm）                          

工作腔室尺寸： 金属腔体：直径260mm×高500mm（外尺寸 ）                                    

                                         直径210mm×高270mm（内尺寸）                                      

靶头：双靶                                                                        

靶材尺寸：直径50mm×厚3mm（因靶材材质不同厚度有所不同）                              

靶材料：标配一块直径50mm×3mm的铜靶及直径50mm×3mm的铝靶                            

靶枪冷却方式： 水冷                                                                        

极限真空度:    5×10-5Pa（10分钟可到5×10-3Pa）                                            

电源：直流恒流电源：输入电压：220V                                                               

                                 输出电压：0-600v                                                              

                                输出电流：0-1.6A                                                              

           射频电源和匹配器：功率500W。                                                                 

载样台： 直径200mm                                                                    

工作气体：Ar等惰性气体（需自备气瓶及减压阀）                                            

气路： 气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。                                      

水冷： 自循环冷却水机                                                                

膜厚仪 : 实时监测，触摸屏控制                                

可镀材料： 铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等                                                                                      

电源电压： 220V 50Hz                                                                    

启动功率   3KW                                                                           

【SD-650MHT安装 / 使用 环境】

选择一个合适的仪器摆放位置：

1、放置SD-650MT高真空磁控镀膜仪在一个长130cm,宽60cm的平面桌子上（桌子的承重需要在200KG以上）；

2，放置“外置 旋转机械真空泵”及“冷水机”在一个合适的位置（地面 / 靠近镀膜仪主机）；

3，系统总重量（镀膜仪、电器柜、选装泵、冷水机）约为208~240KG（选配不同），请确保有4人一起移动 / 搬运仪器；

4，仪器的使用 / 运行环境温度为15~25摄氏度，相对湿度不超过75%；

5,为仪器提供一个220V，16A的空开。

6，确保使用 / 运行环境有足够的通风，并且避免阳光直接照射到仪器。

7，氩气和氩气瓶解压阀需自备。