上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源,进口离子源,KDC 40

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品牌

考夫曼

样本

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型号

KDC 40

荣誉奖项

产地

美洲

伯东公司德国普发真空pfeiffer

金牌
第17年
一般经销商

营业执照已审核

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核心参数

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产地: 美国
类型: 考夫曼离子源
应用: 真空镀膜

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KRI 考夫曼离子源 KDC 40
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 40 技术参数

型号	KDC 40
供电	DC magnetic confinement
- 阴极灯丝	1
- 阳极电压	0-100V DC
电子束	OptiBeam™
- 栅极	专用, 自对准
-栅极直径	4 cm
中和器	灯丝
电源控制	KSC 1202
配置	-
- 阴极中和器	Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000
- 架构	移动或快速法兰
- 高度	6.75'
- 直径	3.5'
- 离子束	集中平行散设
-加工材料	金属电介质半导体
-工艺气体	惰性活性混合
-安装距离	6-18”
- 自动控制	控制4种气体