产地类别: 进口
衬底尺寸: 最大8英寸/200 mm基片沉积(4
工艺温度: 300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制
前驱体数: 1/2/4/8
重量: N/A
尺寸(W x H x D): 78 x56 x28 cm
均匀性: 99.9%
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台式三维原子层沉积系统ALD
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的纳米技术,以控制方式实现纳米的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计, 使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500:1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。 |
GEMStar XT 产品特点: ■ 300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制 ■ 175℃ 温控150ml前驱体瓶,200℃ 控输运支管 ■ 可容纳多片4,6,8英寸样品同时沉积 ■ 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体 ■ 标准CF-40接口 ■ 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件 ■ 等离子体辅助ALD插件 ■ 多种配件可供选择 | GEMStar XT 产品型号: GEMStar -4 XT: ■ 大4英寸/100 mm基片沉积 ■ 单路前驱体输运支管, 4路前驱体瓶接口 ■ 不可升为等离子体增强ALD GEMStar -6/8 XT: ■ 大6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉积 ■ 双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口 ■ 可升为等离子体增强ALD |
GEMStar -8 XT-P: ■ 大8英寸/200mm基片沉积 ■ 双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口 ■ 装备高性能ICP等离子发生器 13.56 MHz 的等离子源非常紧凑,只需风冷,高运行功率达300W。 ■ 标配3组气流质量控制计(MFC)控制的等离子气源线,和一条MFC控制的运载气体线,使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。 | |
GEMStar NanoCUBE: * 大100 mm 立方体样品 沉积 * 单路前驱体输运支管, 2路前驱体瓶接口 * 主要用于3D多孔材料,以及厚样品的沉积 |
丰富配件:
多样品托盘: * 多样品夹具,样品尺寸(8", 6", 4")向下兼容。 * 多基片夹具,多同时容纳9片基片。
| 温控热托盘: * 可加热样品托盘,高温度500℃,可实现热盘-热壁复合加热方式。 | ||
粉末沉积盘: | 臭氧发生器: | ||
真空进样器(Load Lock)
| 晶振测厚仪 | ||
前驱体瓶: | 前驱体加热套: | ||
粉末旋转沉积罐模块: 配合热壁加热方式,进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。
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手套箱接口: 可从侧面或背面接入手套箱,与从底部接入手套箱不同,不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面,反应过程中不对手套箱有加热效应,不影响手套箱内温度。 | |||
应用案例
应用领域
国内外用户
已发表文献
1、 Loïc Assaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporous Pt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b
2、 Xiangyi Luo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003
3、 HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd core–shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59–68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019
4、 Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239
5、 Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on Metal−Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957−10962. DOI: 10.1021/jp502669f
6、 Jeffrey B. Chou, et.al Enabling Ideal Selective Solar Absorption with 2D Metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.
7、 Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337–6345. DOI: 10.1021/nn402385f
8、 Pengcheng Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew. Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 –6. DOI: 10.1002/anie.201303813
9、 Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano (2013), 11, 10121–10128. DOI: 10.1021/nn404326f
10、 Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388–391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023
11、 Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 (2013) DOI: 10.1063/1.4818168
12、 Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2012) DOI: 10.1557/opl.2012.
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 初次安装培训
免费仪器保养: QD中国工程师会依据使用情况定期回访用户、给予维护建议,保障设备良好运转。
保内维修承诺: 免费维修或更换零件;本地储备货值超过50万美元的备件,迅速响应故障诊断和维修。
报修承诺: QD中国承担中国区本地售后服务工作,专业、迅速解决用户在仪器使用过程中的问题。
微波等离子化学气相沉积系统
型号:CYRANNUS 500万 - 800万脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)
型号:无 200万 - 400万电弧等离子体沉积系统
型号:暂无 面议3D纳米结构高速直写机
型号:NanoFrazor Explore 400万 - 500万美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可多容纳9片8英寸基片同时沉积。全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计,使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上膜厚的不均匀性小于99%,而且更适合对超高长径比的孔径3D结构等结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500:1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。
ARRADIANCE原子层沉积GEMStar的工作原理介绍
原子层沉积GEMStar的使用方法?
ARRADIANCEGEMStar多少钱一台?
原子层沉积GEMStar可以检测什么?
原子层沉积GEMStar使用的注意事项?
ARRADIANCEGEMStar的说明书有吗?
ARRADIANCE原子层沉积GEMStar的操作规程有吗?
ARRADIANCE原子层沉积GEMStar报价含票含运吗?
ARRADIANCEGEMStar有现货吗?
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