原子层沉积系统

仪器简介：

此产品广泛应用于：半导体、纳米材料、钠米科技、薄膜材料、薄膜沉积以及航空航天领域。
PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商，在全球有销售和服务机构.我们开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米技术应用。PICOSUN为客户提供用户友好，可靠及多产的ALD工艺工具，提供从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo，美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲前沿的科学机构、公司。


PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士，于1974年发明了ALD技术，是PICOSUN董事会的成员。我们的首席技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲，PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD专利。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术优质的合作伙伴。

技术参数：

 

技术指标
SUNALE™ R系列技术特点

基本特点：
晶片尺寸 2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工艺温度 Up to 500°C

反应室体积 小型、中型、大型
反应室材料 316 SS, Ti, Ni, Al (quartz)
前驱体 2-6 气体 / 气体 / 固体

基片装载 气体升降


尺寸：
尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量 200 kg



工况：
电源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵 30-80 m3/h
载气 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm

压缩空气 4-5.5 bar 过压
冷却水 反应器不需要

排气 为真空泵及源橱柜配备

样品装载选项：
Picoloader™手动样品装载系统，带一个预真空室和闸阀

主要特点：

特点
多功能的反应器设计
全套的服务