高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H_参数

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高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。

产品特性 / Product characteristics

有磁场ICP（ISM）方式-可产生低圧?高密度plasma、为不挥发性材料加工的专用设备。

可提供对应从常温到高温（400oC）的层积膜整体刻蚀、硬掩膜去除的刻蚀解决方案。

通过从腔体到排气line、DRP为止的均匀加热来防止沉积物。

该设备采用可降低养护清洗并抑制partical产生的构造和材料及加热机构，是在不挥发性材料的刻蚀方面拥有丰富经验的量产装置。

实现了长期的再现性、安定性

产品应用 / Product application

FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.

售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期: 是

现场技术咨询: 有

免费培训: 技术人员现场培训

免费仪器保养: 2个月1次

保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修

报修承诺: 24小时到达

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