¥200万 - 300万
暂无样本
SENTECH RIE SI 591
--
欧洲
看了等离子体刻蚀设备的用户又看了
RIE反应离子刻蚀 SI 591
反应离子刻蚀机SI 591采用模块化设计，可满足III/V半导体和Si加工工艺领域的的灵活应用。 SENTECH SI 591可应用于各种领域的蚀刻工艺中，能够完成多种刻蚀加工。
主要特点:
高均匀性和优重复性的蚀刻工艺
预真空锁loadlock
电脑控制操作
SENTECH高级等离子设备操作软件
数据资料记录
穿墙式安装方式
刻蚀终点探测
系统配置:
平行板式反应线圈，13.56 MHz (600 W)
喷淋头式进气
预真空锁loadlock， 带有取放机械手
绝缘、冷却和加热电极(-25℃至80℃)，基底4"-8"直径，基底托架可支持小片材料和多晶圆。
PLC控制, PC
SENTECH高级等离子设备操作软件
全自动/手动过程控制
Recipe控制刻蚀过程
智能过程控制，包括跳转、循环]调用recipe。
多用户权限设置
数据资料记录
LAN网络接口
Windows NT 操作软件
增加气路
PE电极
外部反应腔加热
下电极温度控制(+20oC ... +80oC)
循环冷却器(5oC ... 40oC)
CS化学尾气净化
Cassette到cassette操作方式
穿墙式安装
干涉式终点探测和刻蚀深度测量系统
在线椭偏测量(SE 401, SE 801)
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员现场培训
免费仪器保养: 2个月1次
保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修
报修承诺: 24小时到达
等离子体刻蚀 SENTECH RIE SI 591的工作原理介绍
等离子体刻蚀 SENTECH RIE SI 591的使用方法?
SENTECH RIE SI 591多少钱一台?
等离子体刻蚀 SENTECH RIE SI 591可以检测什么？
等离子体刻蚀 SENTECH RIE SI 591使用的注意事项？
SENTECH RIE SI 591的说明书有吗？
等离子体刻蚀 SENTECH RIE SI 591的操作规程有吗？
等离子体刻蚀 SENTECH RIE SI 591报价含票含运吗？
SENTECH RIE SI 591有现货吗？
