简易紫外曝光系统
简易紫外曝光系统

面议

暂无评分

暂无样本

Near UV

--

欧洲

  • 铜牌
  • 第23年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
该产品已下架
核心参数
同类推荐

看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了

高准直紫外系统可以应用在微电子领域的光刻图形化过程,适合生产和科研应用领域。我们可提供从近紫外至深紫外波段的多种方案光源系统,最大支持12英寸面积(300mm)。


紫外光源系统使用了高性能的光学模组,包含:椭球反射器、热辐射过滤镜、多元件光学积分器和准直器系统。光学积分器的使用可以实现非相干光光照,大大降低由衍射效应引起的不利影响,使曝光系统能够在厚胶表面得到更精细结构。


应用:


光学曝光、光刻胶稳定化处理、图形反转、边胶修复、光固化。


特点:


  • 高性能、高均匀性,光源系统

  • 近、中、深紫外,不同波长光源可选

  • 200W、350W、500W、1000W、2000W,不同功率可选

  • 精确控制电功率或光强,高稳定性

  • 曝光快门数字控制(0.1-999.9秒),最小控制精度0.1秒

  • 高稳定性和免维护设计

  • 光源辐照圆形或方形区域可选

  • 非相干光消除衍射效应


紫外光源系统图1
紫外光源系统图1



Near UV系统

Deep UV系统

辐照面积

100-300mm

100-300mm

波长

340-450nm

220-260nm

240-275nm

254-325nm

功率

1000W,2000W,3500W

光强均匀性

圆形:±5%(标准型);±2.5%(高均匀型)

方形:±6%(标准型);±3.5%(高均匀型)

曝光控制

0.1-999.9 sec


售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训:

免费仪器保养:

保内维修承诺:

报修承诺:

用户评论
暂无评论
简易紫外曝光系统信息由北京汇德信科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于简易紫外曝光系统报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
移动端

仪器信息网App

返回顶部
仪器对比

最多添加5台