看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了
高准直紫外系统可以应用在微电子领域的光刻图形化过程，适合生产和科研应用领域。我们可提供从近紫外至深紫外波段的多种方案光源系统，最大支持12英寸面积（300mm）。
紫外光源系统使用了高性能的光学模组，包含：椭球反射器、热辐射过滤镜、多元件光学积分器和准直器系统。光学积分器的使用可以实现非相干光光照，大大降低由衍射效应引起的不利影响，使曝光系统能够在厚胶表面得到更精细结构。
光学曝光、光刻胶稳定化处理、图形反转、边胶修复、光固化。
高性能、高均匀性，光源系统
近、中、深紫外，不同波长光源可选
200W、350W、500W、1000W、2000W，不同功率可选
精确控制电功率或光强，高稳定性
曝光快门数字控制（0.1-999.9秒），最小控制精度0.1秒
高稳定性和免维护设计
光源辐照圆形或方形区域可选
非相干光消除衍射效应
Near UV系统 | Deep UV系统 | |
辐照面积 | 100-300mm | 100-300mm |
波长 | 340-450nm | 220-260nm 240-275nm 254-325nm |
功率 | 1000W，2000W，3500W | |
光强均匀性 | 圆形：±5%（标准型）；±2.5%（高均匀型） 方形：±6%（标准型）；±3.5%（高均匀型） | |
曝光控制 | 0.1-999.9 sec | |
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 无
免费培训: 无
免费仪器保养: 无
保内维修承诺: 无
报修承诺: 无
