曝光模式: 投影式
产地类别: 进口
分辨率: 250nm;300nm
光源: 氮化镓激光二极管
光源波长: 375nm; 405nm
光强均匀性: ± 0.5%
曝光面积: 最大110X110mm
看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了
PicoMaster ATE-100 无掩模激光直写光刻机
●250纳米分辨率(375纳米激光源)
●300纳米分辨率(405纳米激光源)
●4095灰阶
●业界最具实力的成套全息设计软件
●最大125x125毫米基板尺寸
PicoMaster 100 采用波长405纳米二极管激光器,它拥有市场上最小的300纳米激光分辨率。升级375纳米激光源,可以更好地兼容市面上I-line光刻胶材,从而满足更高级别的应用需求。备用光学模块,将大大的降低机器停机时间。更为人性化的软件设计,大大提升了用户实际操作效率,它将是您科学研究、实验开发、设计创新,理想的光学伙伴。PicoMaster 100广泛应用于半导体光刻, LED芯片,微流控芯片,微纳结构,灰度光刻,三维加工,全息影像等多个领域。
PicoMaster 100 无掩模激光直写系统性能规格
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 无
免费培训: 免费安装及技术培训
免费仪器保养: 6个月一次
保内维修承诺: 经确认质量问题,免费更换
报修承诺: 24小时内到达现场并开始维修
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