产地类别： 进口
Raith公司可为您提供革新性的光刻系统和纳米加工平台。专注于电子束光刻技术30年，Raith在微纳米技术领域具有丰富的经验。对于光刻和纳米技术方面的问题，Raith将非常乐意为您提供专业的技术支持和工艺应用咨询服务。
EBPG电子束光刻系统可处理200mm的大硅片。它采用了专业的通用设计标准，系统自动化程度高、工作效率高，可满足众多需求，可用于半导体器件的加工和模板制作，同时也是大型实验中心的首选。 |  |
VOYAGER电子束光刻系统的问世标志着Raith新一代电子束直写技术的产生。它的革新性的设计和性能指标，所追求的目标是：优良的结果，高速度和低成本。 |  |
RAITH150 Two是Raith自动化程度很高的直写系统，用于进行长时间和大面积曝光。它是纳米技术研究中心和实验室的理想工具。 |  |
eLINE Plus是一台灵活的电子束曝光和纳米工程平台，适用于大学研究所的多学科研究的特殊需求。 |  |
PIONEER适合大学研究所的既需要高分辨电子束曝光，也需要高倍成像的要求。 |  |
traxx和periodixx可实现零拼接曝光，用于直写长路径波导或类似光子晶体的重复性图案，没有任何拼接误差。
TwinLITH –一种全新的概念。Raith提供电子束和离子束曝光系统，相同的硬件和软件平台，两套系统并行工作将更有效率，纳米加工任务圆满完成。
