EVG^®620 NT

Smart NIL^® UV Nanoimprint Lithography System

EVG®620NT   SmartNIL®UV纳米压印光刻系统

具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL®技术，最大可达100 mm

技术数据

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称，以最小的占位面积提供了最新的掩模对准技术。操作员友好型软件，最短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对齐和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

SmartNIL是行业领先的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无与伦比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景，纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的低成本，高产量的替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板

特征

顶侧和底侧对齐能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和配方控制的曝光间隙

支持最新的UV-LED技术

最小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和转换重组

台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能：键对齐、红外对准、SmartNIL 、μ接触印刷

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：最大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL：最大150毫米的碎片

SmartNIL®：长达100毫米

解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL和SmartNIL®

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

对准

软NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL®：≤±3 μm

自动分离

柔紫外线NIL：不支持

SmartNIL®：受支持

工作印章制作

柔软的UV-NIL：外部

SmartNIL®：受支持

EVG^®6200 NT

SmartNIL UV Nanoimprint Lithography System

EVG®6200NT   SmartNIL UV纳米压印光刻系统

具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL®技术，最大可达150 mm

技术数据

这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而著称，以最小的占地面积提供了最新的掩模对准技术。操作员友好型软件，最短的掩模和工具更换时间以及高效的全球服务和支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对齐和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

SmartNIL是行业领先的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无与伦比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景，纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的低成本，高产量的替代光刻技术。