曝光模式: 投影式
产地类别: 进口
分辨率: 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
光源: LED
光源波长: 385 nm;405 nm
光强均匀性: 无
曝光面积: 最大195mm x 195mm
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小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3
小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
MicroWriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。
产品特点
Focus Lock自动对焦功能 | 光学轮廓仪 |
标记物自动识别 | 直写前预检查 |
简单的直写软件 | Clewin 掩膜图形设计软件 |
产品参数
MicroWriter ML3 | 基本型 | 增强型 | 旗舰型 |
大样品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
大直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 |
直写分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
直写速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm | 25mm2/min @ 0.6μm |
对准显微镜镜头 | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3, x5, x10, x20 自动切换 |
多层套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
小栅格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
样品台小步长 | 100nm | 100nm | 50nm |
光学轮廓Z分辨率 | 无(可升) | 300nm | 100nm |
样品表面自动对焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直写(255) | 是 | 是 | 是 |
自动晶片检查工具 | 无(可升) | 有 | 有 |
温控样品腔室 | 无(可升) | 无(可升) | 有 |
气动减震光学平台 | 无(可升) | 无(可升) | 有 |
应用案例
0.4 μm特征线宽曝光结果
直写分辨率0.1μm
直写分辨率0.6μm
灰度直写
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微结构/微器件/微电制备
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保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 初次安装培训
免费仪器保养: QD中国工程师会依据使用情况定期回访用户、给予维护建议,保障设备良好运转。
保内维修承诺: 免费维修或更换零件;本地储备货值超过50万美元的备件,迅速响应故障诊断和维修。
报修承诺: QD中国承担中国区本地售后服务工作,专业、迅速解决用户在仪器使用过程中的问题。
3D纳米结构高速直写机
型号:NanoFrazor Explore 400万 - 500万脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)
型号:无 200万 - 400万电弧等离子体沉积系统
型号:暂无 面议微波等离子化学气相沉积系统
型号:CYRANNUS 500万 - 800万小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,尺寸仅有70cm X 70cm X 70cm,可以加工大直径200mm的样品,高分辨率可达0.6μm,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
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