小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3
小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3

面议

暂无评分

Durham Magneto Optic

暂无样本

MicroWriter ML3

--

欧洲

  • 金牌
  • 第18年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

曝光模式: 投影式

产地类别: 进口

分辨率: 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm

光源: LED

光源波长: 385 nm;405 nm

光强均匀性:

曝光面积: 最大195mm x 195mm

小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3


小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

MicroWriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。       

                                ML3-1.jpg         

                                                      

 产品特点 

Focus Lock自动对焦功能
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。

光学轮廓仪
MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。

focuslock.png

Profiometer.png

标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。

Bullseye.png

VMA.png

简单的直写软件
MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩膜图形设计软件
●  可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
●  可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
●  书写范围只由基片尺寸决定

software.png

clewin.jpg


产品参数                                                                       

MicroWriter ML3

基本型

增强型

旗舰型

大样品尺寸

155×155×7mm

155×155×7mm

230×230×15mm

大直写面积

149mm x 149mm

149mm x 149mm

195mm x 195mm

曝光光源

405 nm LED 1.5W

405 nm LED 1.5W

385 nm LED 适用于SU-8
(365+405nm双光源可选)

直写分辨率

1μm

1μm and 5 μm

0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm

直写速度

20mm2/min @ 1μm

20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm

25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm

对准显微镜镜头

x10

x3 and x10 自动切换

x3, x5, x10, x20 自动切换

多层套刻精度

±1μm

±1μm

±0.5μm

小栅格精度

200nm

200nm

100nm

样品台小步长

100nm

100nm

50nm

光学轮廓Z分辨率

无(可升)

300nm

100nm

样品表面自动对焦

灰度直写(255)

自动晶片检查工具

无(可升)

温控样品腔室

无(可升)

无(可升)

气动减震光学平台

无(可升)

无(可升)


应用案例


0.4 μm特征线宽曝光结果

Microwriter-测试数据1.jpg


直写分辨率0.1μm

resolution1.png


直写分辨率0.6μm

resolution0_6.png


灰度直写

1_009.jpg

1_010.jpgC10R43.jpg


微结构/微器件/微电制备

1.jpg

1_001.jpg1_004.jpg

2_001.jpg

2.jpg2_005.jpg

3.jpg

3_002.jpg3_003.jpg

4.jpg

4_003.jpg5.jpg

6.jpg

6_001.jpg5_002.jpg

                                    

  • 由于许多疾病相关生物标志物的浓度超低,所产生的信号往往会被其他高浓度分子所产生的信号所干扰,因此从生物流体中进行超低浓度样品(每100 μL中有1到10份)的检测一直是医学/生物分析领域的一个难题。近日,复旦大学魏大程教授课题组使用小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3制备了基于石墨烯场效应管的分子微纳机电芯片解决了这一难题。所制备的芯片实现了对低浓度离子,生物分子和新冠病毒(每100 μL中有1到2份)的快速检测。使用该芯片对新冠病毒进行检测时,仅需鼻咽样本即可,无需RNA提取和核酸扩增,四分钟内就可得到检测结果。相关研究论文已在国际知名期刊《Nature Biomedical Engineering》(IF=25.7)上发表。

    其他 2022-05-10

  • 在新冠疫情大流行的背景下,从大量人群中快速筛查出受感染个体对于流行病学研究有着十分重要的意义。目前,新冠病毒诊断方法包括血清学和病毒核酸测试,主要是以分析逆转录聚合酶链反应作为金标准,此方法在检测中核酸提取和扩增程序耗时较长,很难满足对广泛人群进行筛查的要求,因此,亟需发展一种快速的监测方法应对新冠疫情。 近期,复旦大学魏大程教授课题组利用MicroWriter ML3小型台式无掩膜光刻机制备出基于石墨烯场效应晶体管(g-FET)的生物传感器。该传感器上拥有Y形DNA双探针(Y-双探针),可灵敏且快速的实现新冠病毒的核酸检测分析。该传感器中的双探针设计,可以同时靶向新冠病毒核酸的两个目标基因区域:ORF1ab和N基因,从而实现更高的识别率和更低的检出限(0.03份μL−1)。这一检出限比现有的核酸分析低1-2个数量,可避免混检过程中样本病毒载量较低而产生漏网之鱼,实现的混合测试。该传感器也具有快的检测速度,快的核酸检测速度约为1分钟。由于快速、超灵敏、易于操作等特点以及混合检测的能力,这一传感器在大规模范围内筛查新冠病毒和其他流行病感染者方面具有巨大的应用前景。

    电子/电气 2022-01-10

  • 在新冠疫情大流行的背景下,从大量人群中快速筛查出受感染个体对于流行病学研究有着十分重要的意义。目前,新冠病毒诊断方法包括血清学和病毒核酸测试,主要是以分析逆转录聚合酶链反应作为金标准,此方法在检测中核酸提取和扩增程序耗时较长,很难满足对广泛人群进行筛查的要求,因此,亟需发展一种快速的监测方法应对新冠疫情。 近期,复旦大学魏大程教授课题组利用MicroWriter ML3小型台式无掩膜光刻机制备出基于石墨烯场效应晶体管(g-FET)的生物传感器。该传感器上拥有Y形DNA双探针(Y-双探针),可灵敏且快速的实现新冠病毒的核酸检测分析。该传感器中的双探针设计,可以同时靶向新冠病毒核酸的两个目标基因区域:ORF1ab和N基因,从而实现更高的识别率和更低的检出限(0.03份μL−1)。这一检出限比现有的核酸分析低1-2个数量,可避免混检过程中样本病毒载量较低而产生漏网之鱼,实现的混合测试。该传感器也具有快的检测速度,快的核酸检测速度约为1分钟。由于快速、超灵敏、易于操作等特点以及混合检测的能力,这一传感器在大规模范围内筛查新冠病毒和其他流行病感染者方面具有巨大的应用前景。

    电子/电气 2022-01-10

  • 由于许多疾病相关生物标志物的浓度超低,所产生的信号往往会被其他高浓度分子所产生的信号所干扰,因此从生物流体中进行超低浓度样品(每100 μL中有1到10份)的检测一直是医学/生物分析领域的一个难题。近日,复旦大学魏大程教授课题组使用小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3制备了基于石墨烯场效应管的分子微纳机电芯片解决了这一难题。所制备的芯片实现了对低浓度离子,生物分子和新冠病毒(每100 μL中有1到2份)的快速检测。使用该芯片对新冠病毒进行检测时,仅需鼻咽样本即可,无需RNA提取和核酸扩增,四分钟内就可得到检测结果。相关研究论文已在国际知名期刊《Nature Biomedical Engineering》(IF=25.7)上发表。

    其他 2022-05-10

售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 初次安装培训

免费仪器保养: QD中国工程师会依据使用情况定期回访用户、给予维护建议,保障设备良好运转。

保内维修承诺: 免费维修或更换零件;本地储备货值超过50万美元的备件,迅速响应故障诊断和维修。

报修承诺: QD中国承担中国区本地售后服务工作,专业、迅速解决用户在仪器使用过程中的问题。

  • 小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,尺寸仅有70cm X 70cm X 70cm,可以加工大直径200mm的样品,高分辨率可达0.6μm,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

    9015MB 2019-05-24
用户评论
暂无评论
问商家

Durham Magneto Optic激光直写光刻机MicroWriter ML3的工作原理介绍

激光直写光刻机MicroWriter ML3的使用方法?

Durham Magneto OpticMicroWriter ML3多少钱一台?

激光直写光刻机MicroWriter ML3可以检测什么?

激光直写光刻机MicroWriter ML3使用的注意事项?

Durham Magneto OpticMicroWriter ML3的说明书有吗?

Durham Magneto Optic激光直写光刻机MicroWriter ML3的操作规程有吗?

Durham Magneto Optic激光直写光刻机MicroWriter ML3报价含票含运吗?

Durham Magneto OpticMicroWriter ML3有现货吗?

小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3信息由QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司为您提供,如您想了解更多关于小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
移动端

仪器信息网App

返回顶部
仪器对比

最多添加5台