加热方式: 热壁
产地类别: 进口
应用领域: 半导体
沉积速率: 520nm/min
控制气体: SiH4、NH3、N2
沉积薄膜种类: SiO2、Si3N4、SiOF、SiOCH、SiC
背底真空: -300 to 50
工作气压: 0.2T to 2T
内部尺寸: 最大支持8寸晶圆
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保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 1
免费仪器保养: 1
保内维修承诺: 是
报修承诺: 48小时内上门
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