分子束外延薄膜沉积系统MBE_参数

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v 分子束外延，是在超高真空系统中把所需要的结晶材料放入到喷射炉中，将喷射炉加热。使结晶材料形成分子束，从炉中喷出后，沉积在温度保持在几百度的单晶基片上。如果设置几个喷射炉，就可以制取多元半导体混晶，又可以同时进行掺杂。可以精确地控制结晶生长，进行沉积系统中结晶生长过程的研究

v 12个源炉：镓、铟、铝、砷、锑、磷、铋、硅、镁、掺杂等

v 衬底：最大4inch

v 最高温度：1000°C 温度均匀性：≤±3°C（4inch）

v 超高真空下全自动样品转移

v 用于过程控制和分析的所有现代现场监控功能

v 一个集群上最多7个超高真空功能单元：装载、储存、翻转、处理、排气、生长，外部腔室

可连接其他分析设备或其他：ALD、PLD、PVD、金属化、STM......

售后服务承诺

产品货期: 60天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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