看了等离子体刻蚀设备的用户又看了
v 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果
v 应用方向：
Ø 磁阻式随机存取存储器（MRAM）
Ø 介电薄膜
Ø III-V族光电子材料刻蚀
Ø 自旋电子学
Ø 金属电极和轨道
Ø 超导体
Ø 激光端面镀膜
Ø 高反射（HR）膜
Ø 防反射（AR）膜
Ø 环形激光陀螺反射镜
Ø X射线光学系统
Ø 红外（IR）传感器
Ø II-VI族材料
通信滤波器
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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