【SuPro】离子溅射仪/喷金仪 ISC150

TEM样品杆真空存储站作用效果讨论

若TEM样品杆长期暴露于大气，空气中水汽及残留污染物会附着于样品杆表面。当样品杆重新安装样品并插入TEM中时，会发生： 1.样品杆表面（包括杆内外表面）残存水汽缓慢地释放，大大延长了TEM抽真空时间（由于原位TEM样品杆内部结构复杂，内表面积大大增加，其进入TEM后抽真空延时现象尤甚）； 2.残留污染物会污染待观察样品，甚至会污染TEM真空腔室及内部极靴、探测器等等。 从实用角度考虑，平时不用时，将样品及样品杆存放于真空存储站内；需要使用时，将样品杆从真空存储站内取出，固定好样品后即时插入TEM中。如此就能够保证样品杆与大气中水汽及污染物最大程度的隔绝，有效保证：1.TEM样品抽真空时间大大缩短；2.减少对TEM真空腔室及部件的污染。

贵金属电极材料/光电薄膜材料制备技术资料

ISC150离子溅射仪升级版本，采用无油隔膜泵+分子泵获得高真空环境，保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂，光电薄膜制备，电极材料制备及其他金属镀膜用途。 150T版本离子溅射仪主要的特点就是“无油，高真空”，制备薄膜纯度更高，薄膜质量更优；并且能够在超净间内使用。

小型磁控溅射仪/离子溅射仪简介

目前市面上主流喷金仪产品，采用高电压二极直流溅射方式沉积薄膜，这种设计优点是结构简单，但是缺点是容易造成能量集中，对于样品有明显的温升效应的。 我司ISC150喷金仪采用磁控溅射手段，通过磁控阴极+专用直流电源方式对样品喷金处理，有较低的离子轰击损伤和温升效应；另外，我们的特点还有操作简单，触控面板界面，一键式操作。