Nanomaker EBL电子束刻蚀
Nanomaker EBL电子束刻蚀

€8万

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Nanomaker

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Nanomaker

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欧洲

  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
该产品已下架
核心参数

产地类别: 进口

产品介绍

NanoMaker发布了五个不同的版本FullWorkbenchWorkbench-EDU, WriterEditor.


#功能 \ 产品类别FullWorkbenchWorkbench-EDUWriterEditor
图形编辑器 (专业 2D/3D CAD)

-结构设计(分层/多层)

-加载/保存 GraphicalDataBase (GDB) 文件

-输入GDS,DXF,ELM,BMP,TIF格式文件

-输出 GDS,DXF,ELM, DC2+RF6格式文件*
推荐参数

-实验数据库

-蒙特卡罗计算函数OptionalOptionalOptionalOptionalNone
后处理

-Negative, Union, Frame, Shrink, Erase, Overlaps out, Dividing, Dose Stratification,...NoneNone
接近和仿真

-邻近效应校正NoneNone

-光刻效果模拟NoneNone
校准和调整 (Working with Video)

-对齐测试图案或样品台仿真SimulationSimulationSimulation

-样品台调整测试或ScanField仿真SimulationSimulationSimulation

-图像采集SimulationSimulationSimulation
扫描电镜不准确表征有源补偿

-动态(动态延时的定义)SimulationSimulationSimulation

-失真(扫描电镜光学系统畸变的定义)SimulationSimulationSimulation
曝光 (Writing)

-对齐与补偿动态和失真误差SimulationSimulationSimulation
批处理

-多重校正和曝光SimulationSimulationSimulation
样品台控制 (可选)

-样品台驱动器SimulationSimulationSimulation
图案发生器
NoneNoneNone

* 邻近效应校正的可能性是有限的

功能列表


Full


软件

基本模块(包括编辑,导入/导出,实验推荐参数,后处理,邻近效应校正,光刻模拟,曝光,图像采集,拼接和曝光信息,批量处理,扫描电镜不准确有源补偿的失真和动态延迟,帮助对齐)

蒙特卡罗计算函数参数可选

图案发生器驱动

真实 (自定义) 样品台驱动

图形发生器和样品台模拟驱动器(仿真器驱动,手动驱动程序)

保护锁驱动程序
硬件

图案发生器

保护锁




Workbench


软件

基本模块,包括编辑,导入/导出,实验推荐参数,后处理,邻近效应校正,光刻模拟,帮助。其他功能(如曝光,图像采集,拼接和对位曝光字段,批量处理,扫描电镜不准确有源补偿的失真和动态延迟)仅包含在模拟(训练)模式。

蒙特卡罗计算函数参数可选

图形发生器和样品台模拟驱动器(仿真器驱动,手动驱动程序)

保护锁驱动程序
硬件

保护锁




Workbench-EDU


此版本只提供给教育科研机构
软件

基本模块,包括编辑,导入/导出,实验推荐参数,后处理,邻近效应校正,光刻模拟,帮助。其他功能(如曝光,图像采集,拼接和对位曝光字段,批量处理,扫描电镜不准确有源补偿的失真和动态延迟)仅包含在模拟(训练)模式。

蒙特卡罗计算函数参数可选

图形发生器和样品台模拟驱动器(仿真器驱动,手动驱动程序)

保护锁驱动程序
硬件

保护锁




Writer


软件

基本模块,包括编辑,导入/导出,实验推荐参数,曝光,图像采集,拼接和对位曝光字段,批量处理,扫描电镜不准确有源补偿的失真和动态延迟,帮助。此版本不包括后处理,邻近效应校正和抵制开发仿真功能。

图形发生器驱动

真实 (自定义)样品台驱动 (可选)

图形发生器和样品台模拟驱动(仿真器驱动,手动驱动程序)

保护锁驱动程序
硬件

图案发生器

保护锁




Editor


平版结构的全功能图形化编辑器
软件 

基本模块,包括编辑,导入/导出,实验推荐参数,帮助。下一个函数仅包含在模拟(训练)模式 - 曝光,图像采集,拼接和曝光信息,批量处理,扫描电镜不准确有源补偿的失真和动态延迟校准。出口可能是没有注册的程序限制。此版本不包括后处理,邻近效应校正和光刻仿真功能。

图形发生器和样品台模拟驱动(仿真器驱动,手动驱动程序)



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