光学薄膜分析系统 NKD7000/8000

AQUILA公司NKD7000/8000椭偏仪 仪器简介：

英国Aquila公司是世界领先的薄膜分析解决方案供应商。
其NKD系列薄膜分析系统是世界上第一台专为表征和分析薄膜涂层和基片而设计的光谱仪。适合测量多层薄膜的光学性能n（折射指数）和k（消光系数），以及d（厚度）。
适合多种薄膜材料：介电、聚合物、半导体和金属。
主要应用在光学涂层, 半导体加工, 平板显示器, 数据存储产品, 建筑和高附加值玻璃, 包装和装饰材料, 光电器件等领域。
选件丰富，包括软件选择入射偏振光及其角度，甚至直径大到100mm的样品的X-Y方向上的自动扫描呈像。

AQUILA公司NKD7000/8000椭偏仪 技术参数：

1.波长范围：280nm-2300nm
2.光谱分辨率：1或2nm (可选)
3.层数：多层
4.薄膜厚度范围：5nm - 20μm
5.基体：透明，半透明或半吸收

AQUILA公司NKD7000/8000椭偏仪 主要特点：

1.同时测量反射和透射光谱
2.一体化的控制和分析软件，计算基体中的多种反射
3.数据分析可选用一系列散射模型
4.内置涂层性能数据库，可编辑，可扩展
5.变角度测量，微光斑测量，样品可控温，样品扫描测试