Noivion脉冲电子沉积镀膜

Noivion_IJD电离射流沉积镀膜系统- 脉冲电子沉积

公司简介：

Noivion s.r.l.是一家专注于IJD（电离射流沉积）技术研发与相关设备制造的意大利企业，公司创立于2012年，2022年被捷克Noivion Coating s.r.o.公司收购，现其总部位于捷克Kamenice。是该领域的核心主导厂商，它不仅研发了IJD薄膜沉积设备与核心部件，还为这项专属IJD技术提交了专利。其核心技术是真空环境中的特殊脉冲电子源，可产生短时强放电配合气体射流轰击靶材形成等离子体，最终沉积成膜。该技术拥有意大利专利及国际专利保护，相比传统技术，在保持材料化学计量‍‍比、低温沉积、精准控制薄膜厚度等方面优势显著‍‍‍‍。

‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍产品简介‍‍：‍‍‍‍‍‍

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IJD (Ionized Jet Deposition) 电离射流沉积是一种新型的物理气相沉积 (PVD)技术；

IJD是一种改良自PLD脉冲电子沉积的新型PVD技术，主打成分保真、低温沉积、大面积薄膜制备。‍ ‍‍‍‍‍‍

工作原理：

‍‍‍‍‍‍氩气等工作气体经拉瓦尔喷嘴形成超音速气流，进入空心阴极后借助空心阴极放电效应实现气体的高密度电离；接着释放高能电子脉冲轰击靶材，使靶材烧蚀形成等离子体羽流，最终等离子体随气流迁移到基板表面凝结成膜。该过程能通过非平衡烧蚀保证等离子体的化学计量比，进而真实还原靶材成分。

各种PVD镀膜技术的对比：

IJD技术的优势：

§解决了脉冲电子沉积技术中部件易损耗、需频繁维护的问题，且电子脉冲能量更高，工艺可靠性更强； 

§低温沉积，可避免基板受损，适配热敏感基底（如超导材料、光伏电池薄膜等）； 

§精准保持薄膜与靶材的化学计量比，适配多元复杂材料； 

§膜层厚度可调范围广，可制备几纳米到几微米的薄膜； 

§可以实现大面积均匀沉积，制备高质量薄膜。

IJD部分典型应用：

§在电子领域，它能制备二硫化钼（MoS2）这类过渡金属硫族化合物薄膜，为研发超越硅基技术的高效晶体管、传感器等器件提供支撑； 

§在新材料领域，可用于制备铁、镍、钴、铬、铜等高熵合金薄膜，这类薄膜兼具高硬度、耐腐蚀性等优点； 

§在生物医学领域，其制备的羟基磷灰石、磷酸二钙等磷酸钙基纳米涂层，能适配骨科、牙科植入体； 

§更多应用……

Noivion_IJD电离射流沉积系统，产品系列（2寸、4寸、8寸、12寸机型）：