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上海艾尧科学仪器有限公司
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校验时间：2022年09月
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400-616-7676转1611
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核心参数
晶圆尺寸： 4-8寸
磨盘个数： 1
转速： 0 ~ 200 rpm
尺寸（L*W*D）： 1000 × 2030 × 2100mm
标签：
CTS化学机械平坦CMP设备
CTSAP200
进口化学机械平坦CMP设备
产品介绍
简介
韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级设备，兼容4寸、6寸、8寸样品，具备气囊加载模式的抛光头和分区压力控制，实现高质量抛光。该设备支持自动上下片、自动抛光，配备摆臂式抛光垫修整器，可在线和离线修整。此外，它具有实时监测工艺数据和多Recipe存储功能，并适用于多种CMP工艺，如Si CMP、氧化物CMP等，可协助客户进行工艺开发。
第一、产品简介：
韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端设备，可兼容4寸，6寸，8寸样品。
第二、产品主要特色：
1、CMP抛光头：采用气囊加载模式，核心区，边缘区，保持环三区压力控制，可得到良好的工业级抛光效果；
2、自动上下片，自动抛光，干进湿出；
3、抛光垫修整器：摆臂式设计，由10个传感器分别控制10个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；
4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；
5，工艺数据可实时监测；
6、可存储多个Recipe.
第三、核心技术参数：
抛光头 | 兼容4寸，6寸，8寸 |
抛光头摆动范围 | ±15mm |
抛光头转速 | 0 -200 rpm |
抛光头加压方式 | 气囊柔性加压背压功能（3区加压） |
抛光头压力范围 | 0.14-14 psi |
抛光盘尺寸 | 20英寸 |
抛光盘转速 | 0 -200 rpm |
蠕动泵 | 2个 |
抛光液流速 | 20-500 cc/min |
抛光垫修整器分区 | 10区 |
抛光垫修整器在线扫描速度 | 10sweeps/min |
抛光垫修整器下压力 | 3-20lbs |
抛光垫修整器转速 | 0-150rpm |
CMP后片内非均匀性WIWNU 1sigma，去边5mm | <5% |
CMP后片间非均匀性WTWNU 1sigma，去边5mm | <3% |
仪器尺寸 | 1000×2030×2100(W x L x H, mm) |
冷却系统 | 可选 |
四，应用实例：
CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等
工艺开发 可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发
问商家
CMP化学机械抛光机多少钱一台？
有CTSAP200说明书吗？
未知地区有经销商吗？
CTS化学机械平坦CMP设备可以应用在哪些领域？
CMP化学机械抛光机是国产还是进口的？
介绍下CTSAP200的工作原理
未知地区的销售电话是多少？
有CMP化学机械抛光机的详细技术参数吗？
售后服务
保修期：
1年
是否可延长保修期：
是
现场技术咨询：
有
免费培训：
有
免费仪器保养：
6月1次
保内维修承诺：
免费维修更换零件
报修承诺：
48小时内响应
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联系方式
上海艾尧科学仪器有限公司
公司地址
浦东新区建韵路500号
客服电话
400-616-7676转1611
产品小贴士
CTSCMP化学机械抛光机AP200由上海艾尧科学仪器有限公司提供，产地为韩国，属于进口化学机械平坦CMP设备，符合多项国家和国际分析标准， 广泛应用于电子/电气、航空航天等领域，CTSCMP化学机械抛光机AP200凭借其创新性与实用性，在化学机械平坦CMP设备用户中获得广泛关注。
据仪器信息网显示：该仪器已通过“仪器优选”认证，在产品性能、服务能力等维度表现优异。
根据艾尧仪器官方产品资料显示：CTSCMP化学机械抛光机AP200的晶圆尺寸为4-8寸，磨盘个数为1，转速为0 ~ 200 rpm，尺寸（L*W*D）为1000 × 2030 × 2100mm，CTSCMP化学机械抛光机AP200的价格为面议，具体型号是AP200，品牌为CTS。
客户服务热线：400-616-7676,1611（售前/售后支持）
官方链接：https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104306/C310310.htm
来源：上海艾尧科学仪器有限公司
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公司名称： 上海艾尧科学仪器有限公司
公司地址： 浦东新区建韵路500号 联系人： 张经理 13818193473 邮编： 201318 联系电话： 400-616-7676转1611
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