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核心参数
清洗方法: 湿法清洗
设备类型: 单晶圆清洗
晶圆尺寸: 12寸向下兼容
相关技术: 单片清洗
Osiris湿法清洗设备
OsirisCHEMIXX CMP
进口湿法清洗设备
德国Osiris晶圆CMP后清洗机多少钱一台?
有OsirisCHEMIXX CMP说明书吗?
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Osiris湿法清洗设备可以应用在哪些领域?
德国Osiris晶圆CMP后清洗机是国产还是进口的?
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上海艾尧科学仪器有限公司
公司地址
浦东新区建韵路500号
客服电话
德国Osiris晶圆CMP后清洗机CHEMIXX CMP由上海艾尧科学仪器有限公司提供,产地为德国,属于进口湿法清洗设备,符合多项国家和国际分析标准, 广泛应用于电子/电气、半导体等领域,德国Osiris晶圆CMP后清洗机CHEMIXX CMP凭借其创新性与实用性,在湿法清洗设备用户中获得广泛关注。
根据艾尧仪器官方产品资料显示:德国Osiris晶圆CMP后清洗机CHEMIXX CMP的清洗方法为湿法清洗,设备类型为单晶圆清洗,晶圆尺寸为12寸向下兼容,相关技术为单片清洗,德国Osiris晶圆CMP后清洗机CHEMIXX CMP的价格为面议,具体型号是CHEMIXX CMP,品牌为Osiris。
客户服务热线:400-616-7676,1611(售前/售后支持)
官方链接:https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104306/C495326.htm
来源:上海艾尧科学仪器有限公司