小型珠磨机/砂磨机

本文主要对Muhammad Ali撰写的论文《Optimisation and analysis of bead milling process for preparation of highly viscous, binder-free dispersions of carbon black pigment》[2]进行分享。该论文旨在研究实验室珠磨设备对高黏度颜料分散工艺的影响，重点关注了颜料粒度、快速稳定性和研磨分散效果。采用了流变学特性分析、表面电阻率测量和热重分析等多种分析技术，以评估颜料分散过程中的变化。

制药产品的研发发现和制造涉及的复杂过程需要先进的过程分析技术，即使是常规应用。此要求适用于不锈钢和玻璃容器中的大规模制造工艺以及一次性袋子系统。从培养基和缓冲液制备到灭菌和去污染物污的过程都需要液体化学浓度、和温度监测和控制，以确保最佳的工艺性能。任何这些步骤的错误都可能导致昂贵的产品损失、产品质量下降或时间和劳动力损失。然而，虽然任何制药生产过程中的每一步都代表着代价高昂的错误的潜在错误的来源，但大多数步骤也可以用作潜在的质量控制点。因此，密切监控制造过程中的关键步骤是良好制造工艺设计的关键部分。

在CMP工艺中，对于Slurry而言，影响其抛光效率的因素有：Slurry的化学成分、浓度；磨粒的种类、大小、形状和浓度；Slurry的黏度、pH值、流速、流动途径等。 Slurry的磨料粒子通常为纳米或亚微米级别，粒径越小，表面积越大，表面能越大（或表面张力越大），越易团聚，而团聚而成的大颗粒会在晶圆表面产生划痕缺陷，直接影响产品良率。抛光液平均粒径越小，则对稳定性的控制挑战越大。

近年来，MLCC （多层陶瓷电容器）在智能手机、汽车、工业等领域的需求快速增长。陶瓷浆料是MLCC的主 要原材料之一，电极通过陶瓷浆料印刷、固化而成。对于陶瓷浆料而言，配比浆料的稳定性及浆料的均一性是影 响后续流延工艺、印刷工艺、烧结工艺难度及成败的关键，这些也对电极的规模化制造至关重要。使用珠磨机 （砂磨机）可以有效解决浆料的大小不均一及团聚问题，能使浆料均一且分散均匀。Nicomp 3000动态光散射 仪、AccuSizer 7000颗粒计数器的应用可以有效定位粒子是否团聚且量化大颗粒 (Large Particle Count, LPC)，在浆料工艺开发中起到“眼睛”的作用。而LUM稳定性分析仪可以用数据直观地呈现浆料稳定性，为优化 连续化涂覆工艺起到了至关重要的作用。

减少化学品的污染是纳米晶制剂制备的重要议题之一，我们需要开发一种珠磨加工技术以减少珠磨机对药物的污染。为满足这一需求，我们与 Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd.(盐野义) 签订了一项联合研究协议，开发了一种新的珠磨技术，可减少药物污染和缩短珠磨时间。

加拿大École de technologie supérieure的Vladimir Brailovski团队通过两种不同雾化技术（即等离子体雾化和气体雾化）生产三批Ti-6Al-4V粉末，并对其进行粒度和流动性的表征，不同层厚度和构建方向的测试样本进行3D打印和后处理，从而建立粉末特性与最终产品在几何和机械性能之间的相关性。这项研究表明，使用具有有限数量细颗粒的高度球形粉末可提高其流动性，并获得具有改善的机械和几何特性的LPBF组件。

CMP Slurry 均一性的一体化解决方案。