稳定性分析仪

在CMP工艺中，对于Slurry而言，影响其抛光效率的因素有：Slurry的化学成分、浓度；磨粒的种类、大小、形状和浓度；Slurry的黏度、pH值、流速、流动途径等。 Slurry的磨料粒子通常为纳米或亚微米级别，粒径越小，表面积越大，表面能越大（或表面张力越大），越易团聚，而团聚而成的大颗粒会在晶圆表面产生划痕缺陷，直接影响产品良率。抛光液平均粒径越小，则对稳定性的控制挑战越大。

化学机械抛光，是半导体制造过程中最重要的环节之一。CMP抛光浆料（Chemical Mechanical Slurry），又称CMP浆料、抛光液、研磨液、研磨料，是CMP工艺的3大关键要素之一，其性能和相互匹配决定CMP能达到的表面平整水平。

纤维素纳米纤丝（Cellulose nanofibrils，CNF）制备方法中，高速盘磨、高压均质和微射流处理最为常见。高速盘磨制备的CNF存在粒径不均一、分散性差且结晶度有所下降等问题，高压均质在操作过程中长纤维容易堵塞阀门，相比于前两种制备方法，微射流处理减少了堵塞的程度，且可制备得到直径较为均一的CNF。

脂质体的粒径直接影响药物的释放、生物利用度、载药量、靶向性等，在制备时应控制粒子的大小，获得较窄且均匀的粒度分布。

奥法美嘉平台提供整套的光刻胶用色浆均一性与稳定性解决方案，可用于快速评估、优化光刻胶色浆的配方和工艺：砂（珠）磨机对色浆进行研磨分散处理，高压微射流均质机对色浆浆料进行分散均质处理、Nicomp粒度分析仪分析平均粒径、AccuSizer颗粒计数器分析大粒子浓度，Lum稳定性分析仪快速分析色浆稳定性，Entegris-ANOW滤芯过滤杂质及大颗粒。

目前,甲流疫苗主要有三种类型：全病毒灭活疫苗［Influenza Vaccine（Whole Virion）,Inactivated；InfV-W］、裂解灭活疫苗［Influenza Vaccine（Split Virion），Inactivated；InfV-Sp］和亚单位灭活疫苗［Influenza Vaccine（Subunit），Inactivated；InfV-Su］等。根据疫苗生产是否加入佐剂，又分为有/无佐剂疫苗。流感疫苗研究中应用到的佐剂主要有铝佐剂（氧化铝、氢氧化铝、磷酸铝）、MF59、LTK63、新型佐剂等，甲流疫苗常用的佐剂为铝佐剂。[3,4]

乳佐制备及表征一体化解决方案。

标准物质的研制包括了标准粒子的合成制备、理化性能、均匀性、稳定性研究、定值及不确定度评定等多项工作。标准粒子的制备是基础，粒径及粒径分布的控制是技术关键。下面我们将简单介绍标准粒子的研制方法以及运输保存注意事项。

MLCC陶瓷浆料作为MLCC生产的重要环节，浆料的稳定性和均一性影响着后续流延工艺和印刷工艺的效果，浆料如果易沉淀和易团聚，陶瓷介质的紧密型和稳定性将会受到影响；陶瓷浆料中陶瓷粉体的粒径会影响介质层的厚度，陶瓷粉体粒径过大不利于MLCC薄层化和小型化，此外还会影响MLCC产品的烧结性能、介电常数、介质损耗，温度特性及容量等多方面；陶瓷粉体的外貌形态也会影响MLCC的性能，因此在分散过程中，需尽可能减少陶瓷粉体的损伤

CMP Slurry 均一性的一体化解决方案。