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AGS Plasma
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AGS TT-RIE/CVD/PECVD
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美洲
看了化学气相沉积设备的用户又看了
AGS Plasma Systems, Inc.
Now Celebrating Our 25th year!
美国AGS公司成立于1991年，在等离子系统领域已有25年的历程，是一家历史悠久的等离子系统供应商，提供的真空等离子系统主要应用于图案转换中薄膜沉积，刻蚀，如微电子，MEMS，光伏，光电，纳米科技等行业领域。
| 2012年Semicon West ，AGS公司推出一个新型的，桌面式 TT-150—RIE/CVD 系统，非常经济实用，对世界各地大学，研究所来说这样如此特色的RIE和CVD应用是非常完美的。
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