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45 台激光直写光刻机 3I规则
德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机

德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机

  • VPG+800/VPG+1100/VPG+1400
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无掩膜激光直写光刻机

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参考报价 ¥50万 - 100万
德国海德堡 MLA300自动化无掩膜光刻系统/激光直写光刻机

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激光直写光刻机

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  • PicoMaster XF ATE-200
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激光直写光刻机

激光直写光刻机

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大幅面无掩模激光直写光刻机

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大幅面无掩模激光直写光刻机

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  • PicoMaster XF ATE-500
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MicroMaster 激光直写光刻机

MicroMaster 激光直写光刻机

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PicoMaster 激光直写光刻机

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紫外光刻机

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  • URE-2000/30D 型(定制)紫外光刻机
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参考报价 ¥49万
奥地利EVG 紫外光刻机EVG620

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  • EVG620
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EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能)

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双光子聚合激光直写3D纳米光刻机

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  • MicroFAB
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德国海德堡 NanoFrazor Scholar热探针科研型3D纳米结构激光直写光刻机

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  • NanoFrazor Scholar
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德国海德堡 NanoFrazor Explore热探针三维光刻3D纳米结构激光直写光刻机

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  • NanoFrazor Explore
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EVG自动化生产晶圆键合系统GEMINI

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EVG 510  Wafer Bonding System

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EVG晶圆键合系统 510

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EVG®610   掩模对准系统(光刻机)

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亚科电子-超高分辨率电子束光刻EBL

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  • 超高分辨率电子束光刻EBL
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45

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分类小贴士

无掩模光刻机(也叫直写光刻机)是一种将图案直接写入光刻胶上的光刻设备,不需要使用掩模(即类似印章的遮罩板)来进行光刻。与传统的掩模光刻机相比,无掩模光刻机具有以下优点: 更快的制程速度:无掩模光刻机不需要进行掩模对准和对位工作,因此制程速度更快。 更灵活的生产能力:由于无掩模光刻机可以直接在光刻胶上绘制图案,因此可以生产出更加灵活、多样化的产品,而不必因为制造新的掩模而增加成本。 更低的成本:无掩模光刻机不需要使用掩模,因此在掩模设计、制造、校验和维护等方面都可以降低成本。 无掩模光刻机主要应用于MEMS、LED、纳米技术、生物芯片等领域的制造。

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