清洗方法： 湿法清洗
产地类别： 进口
设备类型： 单晶圆清洗
晶圆尺寸： 12寸
相关技术： 化学液清洗、PVA刷清洗、兆声清洗
尺寸： 1.26mm*1.31mm*2.042mm
适用制程、应用范围： 半导体工艺制程环节中清洗、刻蚀、显影等
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n产品简介
CHEMIXX 1201是全自动湿法处理系统，配置cassette to cassette 或foup,，支持12寸及以下尺寸晶圆或9 x 9 英寸方片的湿法处理，包括蚀刻、清洁或显影工艺。该系统可配置3个自动输送臂，多种不同的喷嘴，以满足不同的湿法应用。
n产品特色
÷ 应用领域：清洗、蚀刻或显影
÷ 衬底尺寸可达 ?300 毫米或可达 230 x 230 毫米
÷ 最多三个自动输送臂
÷ 可选不同类型的喷嘴和 BSR 喷嘴
÷ 去离子水室冲洗
÷ 电阻率 PH-Sensor 控制
÷ 单臂或双臂机械臂
÷ 带 FOUP 或 Cassette 的
÷ 真空或低接触卡盘
÷ 外部10或40升不同化学品罐可选
÷ 由 PP 制成的工艺室（可选 ECTFE）
÷ 两个或多个排液分流器（传感器控制和通过配方编程）
÷ 带有四个光区的信号灯，使系统状态可视化
÷ 满足洁净室等级 10 (ISO 4) 的通用设计
÷ 兼容SCES/GEM通讯协议
÷ 清洗部分，包含PVA刷洗，兆声清洗，化学液清洗等模组
n技术数据
÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?300 mm (?12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)
÷ 电机转速: 最大 6.000 转数*, 以 1 转 步进可编程
÷ 电机加速: 最大 40.000 转/秒*, 以 1 转/秒的步进
÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒，步长为 0.1 秒
÷ 系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成，4 个可调节支脚和运输轮以及用于加工区域的透明和可锁定的玻璃门
÷ 处理室: 由 PP 白色制成（可选 ECTFE）
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 培训人数不限
免费仪器保养: 半年1次
保内维修承诺: 免费维修更换零配件
报修承诺: 接到用户产品维修需求，3小时内做出反应。
Osiris湿法清洗设备CHEMIXX 1201的工作原理介绍
湿法清洗设备CHEMIXX 1201的使用方法?
OsirisCHEMIXX 1201多少钱一台?
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Osiris湿法清洗设备CHEMIXX 1201报价含票含运吗？
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